Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 387 388 389 390 391 392 393... 423 424 425
|
|
|
|
7сЛ /5 Ю t 600 \ \ \ 20 15 10 700 600 Т '• 25 200S00 т Т ЮОО и кристаллизация соединения КЬзА! при Рис. 12.29. Зародышеобразование различных режимах обработки: / — термический изохронный отжиг Т^^^ и ИЭПО аморфных слоев; 2 — ИЭПО до 5 Дж/см-; ? —термический отжиг монокристаллов Nb, имплантированных 25% AI; 4 — термический отжиг слоев NbgAl, поврежденных предварительно имплантацией ионов азота N+ + Рис. 12.30. Восстановление температуры Тс У пленок с различной степенью предварительной неупорядоченности структуры. Для сравнения приведены данные по термическому отжигу Готж фазы Л15 соединения Nbs(Geo.8Nbo,2) имплантированного германием: ; —8'10'з Аг+/см2, энергия 600 кэВ; 2 — 1,8*10*^ Аг+-/см2, энергия 600 кэВ; 5 —4'10'7 H + Zcm^, энергия 300 кэВ; 4 — имплантация ионами Ge"^ соединения КЬз(ОЄд gNbg 2); 5 — ИЭНО до 5 Дж/см2 Стабильная фаза А15 системы Nb—Ge имеет около 20% атомов ниобия в узлах кристаллической решетки германия [Nb3(Geo,8Nbo,2)I и температуру Гс, равную 6,5 К. Кристаллические пленки с почти стехиометрическим составом и значениями Тс=21,5К были облучены ионами водорода и аргона до различного уровня повреждения и подвергнуты изохронному процессу отжига. Из данных, представленных на рис. 12.30, можно определить, что максимум температуры Тс, достигаемый при температуре отжига около 850°С, в сильной мере зависит от степени беспорядка в структуре образца. Полное восстановление значения Тс наблюдается для образцов, облученных потоком ионов водорода только в том случае, если они были лишь слегка повреждены (в том смысле, что наблюдалось небольшое снижение интенсивности рентгеновских линий и небольшой рост параметра решетки). Образцы же, облученные большими дозами аргона, обнаруживали при рентгеновском анализе аморфную структуру и характеризовались такими же кривыми восстановления Гс, как и отожженные пленки NbsGe, полученные напылением. Из рис. 12.30 ясно также, что с ростом беспорядка в структуре образца температуры Тс, соответствующие наивысшим степеням отжига, сдвигаются в зону больших значений, тогда как сама степень отжига не подвергается заметному влиянию. 389
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 387 388 389 390 391 392 393... 423 424 425
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
