Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 276 277 278 279 280 281 282... 423 424 425
|
|
|
|
Приведенное соотношение не применимо для ионов инертных газов, которые склонны к образованию пузырьков и могут спонтанно покидать твердое тело при приближении распыляемой поверхности к области расположения имплантированных ионов. 10.2.2. Имплантация атомами отдачи и каскадное перемешивание Имплантация атомами отдачи и каскадное перемешивание обусловлены сильным взаимодействием пучка бомбардирующих ионов с атомами твердого тела, вызывающим значительные смещения атомов. В последние годы опубликован ряд теоретических исследований процессов каскадного перемешивания, вызванных непосредственно смещениями атомов. В качестве примера можно сослаться на работы [14—17, 22, 23]. В гл. 7—9 обсуждается взаимосвязь перемешивания за счет смещений с каскадными процессами, стабильностью преципитатов и перемешиванием ионным Различие между имплантацией атомами отдачи и каскадным перемешиванием можно пояснить следующим образом. Бомбардирующие ионы передают атомам (и электронам) твердого тела определенный импульс. В результате распределение смещений атомов оказывается анизотропным [26], и они перемещаются преимущественно в направлении пучка ионов. Однако сам по себе этот процесс не приводит к перемещению значительного числа атомов в направлении пучка, поскольку твердое тело релаксирует, восстанавливая свою обычную плотность. Поток выбитых в направлении пучка атомов компенсируется потоком противоположного направления, вызванным релаксацией. Однако в сплавах поперечное сечение процесса перемещения и длина пробега атомов зависят от массы и заряда ядер [14], поэтому, как правило, в направлении пучка перемещаются атомы более легкой компоненты сплава. В результате возникает поток атомов этой компоненты в глубь материала. Одновременно возникает противоположно направленный поток атомов других компонент, компенсирующий изменение плотности. Суммарный поток атомов через произвольное сечение мишени плоскостью, параллельной поверхности, оказывается практически равным нулю. Выражение "имплантация атомами отдачи" используется в данной работе для обозначения суммарного потока атомов некоторой компоненты сплава в направлении, параллельном пучку падающих ионов. Быстрая передача энергии атомами отдачи обеспечивает эффективное разупорядочение направлений вылета внутри каскадов. Вследствие этого чаще всего перемещение атомов в энергетических каскадах приводит к изотропному перемешиванию, а не к имплантации атомами отдачи [16, 24]. Преобладание изотропного перемешивания простирается до области достаточно низких энергий первичной отдачи. 278
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 276 277 278 279 280 281 282... 423 424 425
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
