Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 248 249 250 251 252 253 254... 423 424 425
|
|
|
|
ние диффузии примесных атомов и их перераспределения необходимо для объяснения сложных явлений, встречающихся при ион-но-лучевой обработке материалов. Во многих материалах облучение или имплантацию необходимо проводить при повышенных температурах, чтобы обеспечить достаточно высокую подвижность атомов примеси. Только так можно обеспечить перераспределение примеси и изменение концентрационного профиля имплантированных атомов или модификацию подповерхностных выделений посредством перераспределения примеси. Среди, выполненных на сегодня работ имеются лишь несколько, в которых для достижения поставленных целей мишень нагревалась до значительных температур. Вместе с тем совершенно очевидно, что при имплантации сильноточными пучками происходит существенный разогрев мишени. В будущем будут реализованы более точные методы контроля температуры мишени. Низкая температура мишени будет применяться в тех случаях, когда необходимо обеспечить преимущественное влияние перемешивания и предотвратить образование равновесных фаз. При необходимости обеспечения диффузии примеси и ее перераспределения будут применяться мишени, нагретые до высокой температуры. Перспективно также применение комбинированных методов, включающих низкотемпературную и высокотемпературную обработку и позволяющих получить любые желаемые профили примесных атомов. Еще одной перспективной тенденцией представляется отказ от использования газовых ионов для создания дефектов и перемешивания. Инертные газы, будучи нерастворимы, коалесцируют с образованием выделений в виде пузырьков. Подобная негомогенность может быть весьма нежелательна. Растворимые или химически активные ионы, так же как, например, ионы азота, широко используются для управления износостойкостью поверхностей, но масса этих ионов и количество создаваемых ими дефектов невелики. Чтобы получить высокую плотность радиационных дефектов, весьма перспективно применение самоимплантации. Основная трудность тут связана с созданием подходящих источников ионов. Существенные преимущества может дать применение для имплантации тяжелых ионов. Широкое применение в будущем ионной имплантации для поверхностной обработки требует проведения исследований, по крайней мере, в двух областях: исследование радиационно-стимулированной диффузии в соединениях типа силицидов металлов и выяснение механизма миграции атомов через междоузлия при температурах, недостаточных для активации движения вакансий. Миграция атомов в соединениях должна сопровождать фазовые превращения, часто наблюдающиеся при ионной имплантации [62]. Работы по радиационно-стимулированной диффузии в подобных материалах на сегодня, вероятно, отсутствуют, во всяком случае их количество весьма ограничено. Точно также в большинстве случа 250
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 248 249 250 251 252 253 254... 423 424 425
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
