Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 215 216 217 218 219 220 221... 423 424 425
|
|
|
|
7.4. Выход распыления для ^Не+ с энергией 1 МэВ Мишень (20 К) Y, атомов на нон Источник Мишень (20 К) Y, атомов на ион Источник Хе АО 25 СО2 100 [27 Кг 20 ;25 N2 300 24 Аг 100 26 UF4 (4 МэВ^Ю+) 4 28 Лед (Н2О) 10 27 Различные метал 10-3 лы ков. Подобные аргументы приводились выше в отношении рис. 7.14, Отметим, что более тщательные исследования аргона [26] показали: выход распыления совершенно не зависит от температуры (рис. 7.17), пока она ниже пороговой (^24 К для аргона и ^50 К для ксенона), выше которой потери за счет термического испарения во время эксперимента становятся значительными. Даже при низких температурах Боттигер [26] наблюдал заметное увеличение выхода распыления при высоких плотностях тока, указывающее на то, что эффекты лучевого разогрева могут приводить к увеличению темпе* ЮО 200 h,^,10'^CM'^ 300 у 300 750 200 150 100 50 О LcM 150пэ8 ""Не^^Аг [ПЬЯ)о-5Ю'\м'^ 1 ^—^ \ 1 \ 1 } / 1 25 20 15 10 5 10 20 30 Г,К Рис. 7.16. Зависимость выхода распыления Y от толщины ксенона hxe и материала подложки h при облучении ионами гелия энергией 1 МэВ [25]: і — SFe, 2000 А. 20 К, 2 — Be, 40 К; ? — Be. 20 К Рис. 7.17. Температурная (Г) зависимость выхода распыления (эрозии) Y аргона, облученного ионами ^Не+ с энергией 750 кэВ [26]: / ^ плотность потока атомов серебра 217
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 215 216 217 218 219 220 221... 423 424 425
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
