Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками






Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .



Страницы: 1 2 3... 17 18 19 20 21 22 23... 423 424 425
 

пробег ионов хрома равен 200 А, а разброс пробегов достаточно велик. Профиль дефектов не повторяет концентрационный профиль,, его максимум располагается ближе к поверхности. Расчет вложенной (запасенной) при образовании дефектов энергия объясняет,, почему поле разброса для выбранной комбинации ион — мишень и: данной энергии так велико: значительная часть энергии выделяется вблизи поверхности и поверхностные атомы могут быть выбиты. Как можно представить себе в микроскопическом масштабе каскад соударений? Подробно этот вопрос освещается в гл. 7. На рис. 1.7 изображена предельная форма каскада соударений, известная под названием "пик смещений". Данная схема была разработана примерно 30 лет назад и показывает, что при ионной бомбардировке, запасенная энергия локализуется в очень малом объеме. Более того, в области "пика смещений:^ нагрев (или оилавле-ние) и закалка происходят за 10"^^ с, что соответствует скоростіі закалки 10^^ К/с. Такая ситуация коренным образом отличается от рассматривавшихся ранее схем, в которых энергия передается атомам кристаллической решетки в равновесных условиях. На светлопольном электронно-микроскопическом снимке, изображенном на рис. U8, видны сильнолокализованные эффекты разрушения кристаллической решетки в каскадах соударений. Снимок соответствует случаю имплантации в кремний ионов висмута энергией 118 кэВ До дозы ионов 5-10^^ см"^. Темные области обуслов °o2oSo2oSo2o: о / oiiliilfiils: Рис, 1 6. Концентрационный профиль (7) и профиль распределения дефектов (2) при имплантации в железо ионов хрома энергией £=50 кэВ, рассчитанные по программе ТШМ с использованием универсальных значений сечений ядерного торможения, взятых из теории Зиглера и Бирсака, и значения сечений электронного торможения по теории Линдхарда —Шарфа —Шиотта. Каждая из приведенных кривых получена по результатам усреднения траекторий 500 ионов (по данным [3] и неопубликованным результатам Зиглера и Бирсака) Рис. 1.7. Пик смещений [4]: / — нормально расположенные атомы; 2—атомы внедрения; 5 — траектория имплантируемой частицы; 4 —траектория первично выбитой частицы
rss
Карта
 






Страницы: 1 2 3... 17 18 19 20 21 22 23... 423 424 425

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу


Расчеты тепловых процессов при сварке
Сборка и сварка корпусов судов
Технологія конструкційних матеріалів і матеріалознавство: Практикум: Навч.посібник
Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками
Металловедение пайки
Теорія зварювальних процесів. Дослідження фізико-хімічних і металургійних процесів та здатності металів до зварювання
Справочник по сварке цветных металлов

rss
Карта