Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 16 17 18 19 20 21 22... 423 424 425
|
|
|
|
Рис. 1.5. Образовашне метастабильного твердого раствора Ag—Си при перемешивании ионным пучком (ИЛ), Изменение структуры контролировалось измерением параметра а кристаллической решетки [2]: Сдц — концентрация серебра принадлежит особое место. Дело в том, что эта система была первой исследованной при скоростной закалке из расплава с применением традиционных методов. Эксперименты показали образование метастабильных твердых растворов (Ag— Си является эвтектической системой с весьма ограниченной предельной растворимостью примесных атомов в твердой фазе). Впоследствии для получения метастабильных твердых растворов стали применять лазерную закалку, ионную имплантацию и, наконец, ионное перемешивание. Подробнее ионное перемешивание обсуждается в гл. 8, 9, П. 1.5. Эффекты, обусловленные ионной бомбардировкой 1.5.1. Вложенная энергия и каскадные процессы Изучение взаимодействия ионов с поверхностью твердых тел было особенно продуктивным в последние 40 лет и привлекло внимание таких выдающихся физиков современности, как Бете, Бор, Ферми, Вигнер. Ряд фундаментальных проблем еще ждут своего решения; особенно это относится к каскадам столкновений большой плотности. Ионы передают свою энергию электронам и атомам твердого тела за счет кулоновского взаимодействия. Электронные энергетические потери в металлах и полупроводниках невелики в конечном итоге проявляются как выделение теплоты. Атомные или упругие взаимодействия могут быть весьма интенсивными и вызывать сильные искажения и разрушения в кристаллической решетке. Например, тяжелый ион энергией ^100 кэВ при имплантации в кремний вызывает смещение до тысячи атомов. Процесс потери энергии может быть описан либо раздельно в виде потерь энергии на электронные взаимодействия и на парные взаимодействия ядер (так называемые линейные каскады), либо как коллективное движение атомов отдачи (термические пики). На рис. 1.6 показаны результаты расчета концентрационного профиля и профиля дефектов при имплантации ионов хрома энергией 50 кэВ в железо для случая линейного каскада. Проведенный расчет выявляет основные особенности имплантации. Средний 18
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 16 17 18 19 20 21 22... 423 424 425
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
