Пайка металлов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 164 165 166 167 168 169 170... 382 383 384
|
|
|
|
и поэтому для высокотемпературной пайки меди флюс "Салют 1" не рекомендуется. В процессе растекания состав флюса "Салют 1" не изменяется, газовые включения не образуются, что способствует затеканию припоя в зазор ровным фронтом; флюс имеет больший интервал температурно-временной активности, чем флюс ВП209. При пайке с флюсом "Салют 1" величины зазора (0,01—0,5 мм) и нахлестки (2—5 мм) существенно не влияют на качество паяного соединения. Это обусловлено отсутствием в шлаках оксидов металлов. Температурный интервал активности флюса "Салют 1" при пайке с серебряными припоями составляет 650— 750 °С. Остатки и шлаки коррозионно-активных флюсов-электролитов, имеющих рН7, удаляют с поверхности паяного изделия путем тщательного промывания его в растворителях, например воде. Введение во флюсы для пайки серебряных припоев 5 % ЗіОг в виде очень мелких частиц избавляет от необходимости просушки флюса перед пайкой. Флюсы для высокотемпературной пайки алюминия. При высокотемпературной пайке алюминия используют флюсы следующих систем: 1) КС1—LiCl—NaCl—ZnCL2 (с добавкой фторидов); 2) КС1—LiCl—NaCl—2пСІ2 (CdCb); 3) KCl—LiCl—NaCl (c криолитом или KF и aif3); 4) KCl—NaCl—ВаСЬ. Флюсы систем / и 2 относятся к реактивным; они нашли применение при пайке в печах (система 2), газопламенным нагревом и погружением (система /). Флюсы систем 3 и ^ — нереактивные — применяют в основном для пайки во флюсовых ваннах. В процессе флюсования алюминия и его сплавов в расплавах систем 3 и 4 имеет место механизм электрохимического разрушения оксидной пленки на паяемом металле и твердом припое [24]. Поверхность окисленного алюминия в расплавах хлоридных и хлоридно-фтористых солей заряжена положительно. Поэтому на первой стадии флюсования на межфазной границе оксид — расплав флюса адсорбируются поверхностно-активные ионы — преимущественно анионы. Ионы Al^"^ из металла мигрируют через несплошности в слое оксида, обусловленные нестехиометрич-ностью его состава, к границе раздела его с флюсом под действием поля напряжением ^ 100 В при толщине пленки 100 нм. Оксидная пленка разрушается, когда стационарный потенциал алюминия fcT в расплаве флюса становится более положительным, чем потенциал активации Ег. При потенциале Ег галогениды вытесняют ионы гидрооксида с поверхности алюминия, препятствуя его электрохимическому окислению. При этом химическое сродство алюминия к кислороду уменьшается и становится меньше, чем сродство алюминия к иону С1~. Условие £ст Ег возможно при образовании в расплаве флюса аниона (ион Р~), активно разрушающего оксид алюминия, и деполяризатора катодного процесса (комплексный катион 163
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 164 165 166 167 168 169 170... 382 383 384
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
