Повышение эффективности лазерной обработки материалов

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Повышение эффективности лазерной обработки материалов

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .

Страницы: 1 2 3... 16 17 18 19 20 21 22 23 24

	 «ого пучка лазерного излучения. Такой возврат может осуществ­ляться простыми световозвращателями, устанавливаемыми на пу­ти отраженного пучка. На рис. 9 приведена схема устройства, в котором обработка материала ведется пучком поляризованного излучения, падающе­го нормально к поверхности материала. Эта схема была предложена для защиты оптики излучателя лазера от отраженно­го излучения [11]. Ее можно использо­вать для возврата зеркально отражен­ного излучения в зону обработки. Работа устройства заключается в сле­дующем. Излучение лазера 1 Р-поляри-зации (относительно светоделительной грани поляризатора 2) проходит поляри­затор и четвертьволновой пластинкой 3 преобразуется в излучение с круговой поляризацией. Это излучение фокусиру­ется объективом 4 на поверхности объ­екта обработки 5. Отраженное в апер­туру фокусирующего объектива излуче­ние круговой поляризации пластинкой преобразуется в излучение S-поляриза-цни, которое отражается светоделитель­ной гранью поляризатора и не проходит в направлении лазера. Излучение, ответ­вленное поляризатором, может быть об­ратно возвращено в зону обработки. Представленная схема обеспечивает од­нократный возврат непрерывного и им­пульсного излучений и многократный возврат коротких (т<10_8с) импульсов лазерного излучения. Для многократного возврата коротких импульсов четвертьволновая пластинка выполняется в виде модулятора поляри­зации. Для возврата в зону обработки диф- фузно отраженного излучения может быть использована зеркальная полусфера. Схема устройства для лазерной обработ­ки с применением такой полусферы пред­ Рис. 9. Схема устройст­ва для лазерной обра­ботки с поляризационной развязкой лазерного из­лучения ставлена на рис. 10. Излучение лазера / объективом 2 фокусируется через отверстие -в полусфере 3 на поверхность объекта обработки 4, установленного так, что центр его зоны обработки совпадает с центром полусферы. 'Излучение, диффузно отраженное поверхностью объекта обработки, много­кратно возвращается в зону обработки. 17 rss Карта

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу