Теория сварочных процессов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 107 108 109 110 111 112 113... 558 559 560
|
|
|
|
Из формулы (3.4) можно получить выражение скорости движения электрона прн прохождении разности потенциалов U: V = л1{2е/те)и.(3.5) Подставляя в это выражение значения заряда и массы электрона, можно получить расчетное соотношение напряжения и скорости электрона в виде V = 5,93-lOV^/ м/с.(3.6) В реальных условиях значение U колеблется в пределах 15 ООО.-.200 ООО В, что позволяет разгонять электроны до значительных скоростей. Выбор ускоряющего напряжения при электронно-лучевой обработке в существенной мере зависит от назначения процесса. С одной стороны, чем выше это напряжение, тем большую энергию можно сообщить электронам и тем эффективнее будет воздействие электронного луча на обрабатываемый материал. С другой стороны, повышение напряжения приводит к резкому повышению уровня рентгеновского излучения, сопутствующего электронно-лучевой обработке, усложнению и удорожанию оборудования и необходимости выполнения специальных требований техники безопасности. В связи с этим в электронно-лучевой технологии в настоящее время применяется следующее разделение электронно-лучевого оборудования по значению ускоряющего напряжения: 1. Низковольтные системы с ускоряющим напряжением 15 ООО...30 ООО В. Эти системы наиболее просты по конструкции и в эксплуатации и применяются в основном для операций, связанных с плавлением и сваркой различных материалов. 2. Системы с промежуточным ускоряющим напряжением (50 ООО...80 ООО В) применяются в тех случаях, когда необходимо увеличить глубину проплавления обрабатываемого материала. 3. Высоковольтные системы с ускоряющим напряжением 100 ООО...200 ООО В наиболее сложны в изготовлении и эксплуатации и применяются в тех случаях, когда необходимо проведение прецизионной размерной обработки и микросварки. Важная положительная особенность электронного луча — возможность управления им при помощи электростатических и магнитных полей. Наибольшее распространение на практике получили магнитные системы фокусировки и управления перемещением луча. На движущийся электрон в магнитном поле действует сила F = Bi'sina,(3.7) где В — магнитная индукция; v — скорость движения электрона; а—угол между направлением движения электрона и магнитной силовой линией поля. 110
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 107 108 109 110 111 112 113... 558 559 560
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
