Машиностроение. Энциклопедия Оборудование для сварки
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 439 440 441 442 443 444 445... 494 495 496
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Глава 1. НАНЕСЕНИЕ ПОКРЫТИЙ
|
|
|
|
|
|
|
|
ми высокочастотных разрядных источников
являются необходимость тщательного экрани-
рования с целью исключения влияния высо-
кочастотных наводок на измерительную аппа-
ратуру, трудность получения ионов металлов,
неспособность работать при повышенных тем-
пературах, необходимость контроля парамет-
ров и управления ими, недостаточно длитель-
ный цикл непрерывной работы (50... 100 ч).
Однако высокочастотные источники характе-
ризуются простотой конструкции и надежно-
стью работы, на изготовление не требуется
больших затрат, удобны в эксплуатации, от-
личаются экономичностью.
Для получения тяжелых ионов можно ис-
пользовать источники с дуговым разрядом в
парах материалов электродов. В установках с
такими источниками используются ионные
пучки и ускоренная плазма. Плазменные уско-
рители применяют, например, для высокоско-
ростного нанесения пленок, откачки газов.
Они экономичны, высокопроизводительны,
универсальны. В некоторых случаях находят
применение лазерные ионные источники, в
которых разброс ионов по энергиям составля-
ет 0,2...0,5 эВ, искровые ионные источники,
позволяющие «получать многозарядные ионы,
но отличающиеся невысокой стабильностью
ионного тока; источники с тлеющим разря-
дом, в которых обеспечивается высокая плот-
ность тока, но затруднено измерение энергии
ионов и невелика глубина их проникновения.
Высокие энергии сообщаются ионам с по-
мощью систем ускорения двух типов: в оди-
ночном зазоре между двумя электродами и в
многозазорных ускорительных секциях. Оди-
ночные зазоры надежно работают при уско-
ряющих напряжениях 40 кВ, но при напряже-
нии свыше 100 кВ в подобной системе ускоре-
ния появляются пробои. Более надежны мно-
гозазорные ускорительные секции, обеспечи-
вающие постепенный рост энергии ионов в
каждом зазоре на 15...20 кэВ. Для фокусиров-
ки ионов применяют электростатические лин-
зы (одиночные, иммерсионные, диафрагмы с
отверстием).
Для получения ионных пучков, содержа-
щих определенный элемент, выполняют сепа-
рацию общего потока, осуществляя взаимо-
действие движущихся ионов с магнитным и
электрическим полями, с одновременным воз-
действием постоянного и переменного элек-
трических полей. По скоростям поток фильт-
руют с помощью электростатических анализа-
торов. Разделение пучка осуществляют с помо-
щью секторных магнитных систем, откло-
няющих пучок на 60 или 90°. Разделительная
способность секторных магнитов не уступает
разделительной способности 180°-ных магни-
тов. Чтобы разделить ионы по массе, исполь-
зуют фильтр Винна — устройство со скрещен-
ными ортогонально магнитным и электриче-
ским полями. В некоторых масс-спектромет-
рах и сепараторах применяют квадрупольные
|
фильтры масс. Преимуществами квадруполь-
ного фильтра масс являются слабая зависи-
мость разрешающей способности от энерге-
тического разброса ионов, возможность анали-
за при повышенном давлении остаточного га-
за, крутые фронты пиков. Основной недоста-
ток такого фильтра заключается в наличии
возможности прохождения нерезонансных ио-
нов. В некоторых установках применяют мо-
нопольные фильтры масс, к недостаткам кото-
рых относятся чувствительность к давлению
остаточных газов и нестабильность работы.
Однородность имплантации обеспечивает
система сканирования. В зависимости от не-
обходимости отклонения пучка в одном или
двух направлениях используют либо две парал-
лельные пластины, либо последовательно по
ходу движения пучка две пары взаимно пер-
пендикулярных пластин. Имплантация ионов
в мишень осуществляется в вакуумной каме-
ре. Точное измерение силы тока пучка прово-
дится с помощью калориметра, цилиндра Фа-
радея и кулонометра.
Вакуумная система обеспечивает непре-
рывное поступление газа или паров их ионно-
го источника в приемную камеру с высоким
вакуумом (Ю-5 Па), который способствует
лучшей фокусировке пучка, уменьшению до-
зы нейтральных атомов и загрязнения поверх-
ности образцов. Откачку производят диффузи-
онными насосами, турбомолекулярными насо-
сами с соответствующими форвакуумными на-
сосами, геттерным насосом, создающим фор-
вакуум для сорбционных насосов. Тип насоса
выбирают с учетом состава и количества газа,
а также необходимости получения безмасляно-
го вакуума.
1.5. ТЕНДЕНЦИИ РАЗВИТИЯ
Тенденции развития оборудования для на-
несения покрытий связаны с расширением
сфер и масштабов их практического примене-
ния. В связи с этим как в области газотер-
мических, так и вакуумных методов нанесе-
ния покрытий наблюдается стремление к соз-
данию высокоавтоматизированных и роботи-
зированных комплексов, обеспечивающих, с
одной стороны, высокую производительность
установок, а с другой, — высокое качество на-
носимых покрытий за счет строгого контроля
параметров режима напыления. При этом ис-
пользуется блочно-модульный принцип созда-
ния таких комплексов, который позволяет
оперативно создавать их многообразные моди-
фикации. Другая тенденция, в частности газо-
термического нанесения покрытий, состоит в
разработке мобильных установок и сборно-
разборных комплексов с целью проведения ра-
бот по напылению покрытий по месту без де-
монтажа конструкций и оборудования и созда-
ния стационарных участков и цехов.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 439 440 441 442 443 444 445... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
