|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Рис. 1.14. Структурные схемы установок для особых способов ионно-плазменного нанесения покрытий:
а — катодного распыления; б — магнетронного распыления; в — распыления дугой с холодным катодом; г —
термического испарения сжатой дугой низкого давления и ионного распыления в плазме дуги с термокатодом;
д — термоионного; / — рабочая камера; 2 — откачной пост (высоковакуумный и форвакуумный насосы); 3 —
распылительное (испарительное) устройство; 4 — источник питания распылительного (испарительного) уст-
ройства; 5 — система управления натеканием плазмообразующего газа; 6 — устройство перемещения покры-
ваемых деталей; 7 — устройство нагрева деталей; 8 — система охлаждения; 9 — система управления техноло-
гическим процессом; 10 — система ионной очистки деталей; 11 — источник питания вспомогательного разря-
да; 12 — пирометр для измерения температуры нагрева покрываемых деталей; 13 — система защиты микродуг;
14 — газоразрядное устройство с накаленным катодом; 15 — система управления натеканием плазмообра-
зующего газа; 16— система ионизации парового потока; 17 — источник питания системы ионизации; 18 —
система управления ионизацией
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
