|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Размеры испаряемых заготовок (слитков), мм:
|
|
|
|
диаметр......................70... 150
длина, не более...................700
Расстояние до поверхности
конденсации, мм............... 300...500
Размер поверхности конденсации, мм,
не более:
прямоугольной............... 800 х 600
круглой (диаметр)..................800
цилиндрической (диаметр)...........600
Суммарная скорость испарения
из четырех испарителей, кг/ч...........15
|
|
|
|
Рис. 1.12. Схема установки УЭ-193
|
|
|
|
|
|
|
|
щения заготовок, поверхностей конденсации
изделий.
Установка имеет шесть электронных пу-
шек конструкции ИЭС им. Е. О. Патона.
Пушки двухэлектродные с линейным прямо-
канальным термокатодом, система управле-
ния электронным лучом — электромагнитная.
Силовой полупроводниковый источник пита-
ния электронных пушек мощностью 250 кВт
имеет тиристорное управление, ускоряющее
напряжение 20...25 кВ.
Система управления установкой включает
автоматическую стабилизацию тока электрон-
ных пучков и ускоряющего напряжения пу-
шек, стабилизацию уровня ванны кристалли-
зирующегося слитка и испаряемого материа-
ла, датчики контроля температуры поверхно-
сти конденсации и др. Техническая харак-
теристика установки УЭ-193 приведена ниже.
|
Габаритные размеры установки (без
источника питания), мм 8000 х 6000 х 4500
Оборудование для ионно-плазменного нане-
сения покрытий. Система оборудования для
ионно-плазменных покрытий связана с ис-
точником плазмы, выбранным для осуществ-
ления технологического процесса [2, 6, 10,
18—21] (рис. 1.13). В систему входят: распыли-
тельное (испарительное) устройство /, предна-
значенное для создания ионизированного по-
тока пара материала покрытия. В случае при-
менения тлеющего (или дугового) разряда ис-
парение происходит из твердой фазы, при
этом распыляется катод (мишень). Для тер-
мического испарения из жидкой фазы исполь-
зуется дуговой разряд. При этом испаряется
анод, который выполнен в виде тигля, запол-
ненного материалом покрытия. Однако если
этот материал при заданном режиме испаре-
ния может сублимировать, то испарение про-
исходит из твердой фазы;
рабочая камера 2, предназначенная для
монтажа всех систем, поддержания требуемо-
го давления в ходе технологического процесса;
система управления 3 натеканием плазмо-
образующего газа, предназначенная для созда-
ния газоразрядной плазмы определенного хи-
мического состава и плотности;
|
|
|
|
Размер выплавляемых слитков, мм:
диаметр...................... 70...260
длина, не более...................700
Размер сплавляемых заготовок, мм, не более:
диаметр.........................200
длина...........................1000
Число испарителей....................4
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Рис. 1.13. Структурная схема установки для получения покрытий с помощью ионно-
плазменного распылительного (испарительного) устройства
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
