азотирования (давление, состав
газа, температура и продолжительность выдержки) — в табл.
10.
Для получения равномерного слоя по
всей поверхности детали, включая внутренние азотируемые поверхности,
необходимо поддерживать максимально возможное рабочее давление. При этом
разряд должен полностью облегать всю азотируемую поверхность, толщина
катодной части разряда (толщина зоны максимального свечения) должна
составлять 1—2 мм.
По газовому режиму процесс ионного
азотирования можно проводить двумя способами.
/ способ. На всем
протяжении процесса в камеру подается предварительно диссоциированный
аммиак (25% N2+ 75% Н2). Подача в
печь недиссоциирован-ного аммиака недопустима, так как это вызывает
неравномерный нагрев деталей.
// способ. Первый период процесса,
составляющий его треть, проводят в диссоциированном аммиаке; второй период,
составляющий две трети процесса, проводят в смеси азота (80—90%) с
аммиаком (10—20%). Смешение азота с аммиаком проводится в диссоциаторе, нагретом до 600° С. Газ на
выходе из дис-социометра имеет состав 70—80% N2 н
30—20% Н2. Для деталей сложной формы рекомендуется проводить
процесс ионного азотирования по второму способу, так как прн этом
распределение азотированного слоя по конфигурации детали более
равномерное.
Основные технологические параметры
процесса ионного азотирования выбирают в зависимости от требуемых
твердости поверхности и толщины слоя с учетом марки стали, из которой
изготовлена деталь (табл. 11).
Принципиальная схема установки для
ионного азотирования приведена на рис. 7. К основным функциональным
системам, входящим в установку, относятся анод (3, 4, 7),
катод (5, 6, 17), система электропитания (13 — Щ, вакуумная
система (19, 18), система газоснабжения (/, 2), система измерения и
регулирования температуры (8, 9, 11, 12).
17* 515
