Контактная сварка

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Контактная сварка

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .

Страницы: 1 2 3... 12 13 14 15 16 17 18... 238 239 240

	 Для технологов сварочного производства отмеченные микро­электрические эффекты существен­ны, особенно при изучении кон­тактных сопротивлений. Вероятно, существует прямая связь между явлением экзоэлектронной эмис­сии и фактом медленного вырав­нивания разности потенциалов между различно деформирован­ными объемами металла. Максимум экзоэлектронного выхода наступает через несколько Рис. 1.7. Снижение разности по­тенциалов Uaa, возникшей на кон­такте после ударного сжатия, во времени минут после момента пластической деформации. Падение электриче­ского потенциала £/ю от максимума до нуля на холодном контакте во времени от момента контактирования также происходит за минуты (рис. 1.7). Механическая деформация шероховатостей — это акт некото­рой общей для контакта атомно-электронной активации, которая за несколько минут постепенно угасает, создавая равновесную электрическую структуру. Это и фиксируется, в конечном итоге, нулевой разностью потенциалов на холодном контакте. Полу­чается некоторый физический парадокс: механический контакт при своем возникновении оказывается чисто электрическим. Дру­гое дело, что разности потенциалов на нем измеряются микро­вольтами, что весьма мало по сравнению с теми, что возникают на контакте при прохождении через него сварочного тока. Тем не менее для объяснения электрического пробоя через поверхност­ные слои на металлических поверхностях в контакте вряд ли сле­дует пренебрегать явлением его своеобразной электризации пу­тем давления. Наиболее достоверно считать, что в плоскости вся­кого механического контакта в момент его организации за счет энергии пластической деформации образуется структура плазмы, и плазмы безусловно проводящей, если этой проводимости не ме­шают большие толщины оксидов. Оксидная пленка на рис. 1.6 показана схематически и увели­ченной толщины. Ее сцепление с металлом происходит через про­межуточный разориентированный слой оксидно-металлической эвтектики. Наличие такого слоя в плоскости холодного контакта неизбежно при любой толщине оксидной пленки. Рассматривая профилограмму поверхности на рис. 1.4, можно сопоставить отно­сительные размеры пирамид шероховатости и толщины оксидной, оптически прозрачной пленки на пирамидах. Если высота пира­миды приблизительно 50 мкм, а толщина пленки 0,03 мкм, то из рис. 1.4 можно увидеть, что высота пирамиды в тысячи раз больше толщины оксида на ней. Таким образом, макрошлиф реального 11 rss Карта

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу