Новые материалы






Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Новые материалы

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .



Страницы: 1 2 3... 63 64 65 66 67 68 69... 734 735 736
 

НОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ
ный раствор с очень малым размером зерна применяемого абразива. Каждая пластина на всех трех стадиях финишной полировки обрабаты­вается индивидуально.
При получении высококачественных пластин широко используются процессы жидкостной очистки. При этом большое внимание уделяется рациональному выбору очищающих сред. Для решения различных задач (удаление частиц, снижение уровня загрязнений металлическими при­месями, удаление следов фоторезиста и т. д.) используются различные очищающие растворы (табл. 2.2). Практически все они дают те или иные нежелательные побочные эффекты, и ни один из них не обеспечивает очистку от всех возможных типов загрязнений. Поэтому на практике используются различные сочетания очищающих растворов. Наиболее рас­пространен так называемый RCA-очищающий процесс, который состоит из двух этапов. На первом из них используется раствор SC-1, который обеспечивает эффективную очистку поверхности пластины от посторон­них частиц и органических загрязнений, а на втором - раствор SC-2,
Таблица 2.2. Традиционные очищающие растворы, используемые в полупроводни­ковом производстве
Обозначения
Составляющие компоненты
Назначение
Механизм действия
Побочные эффекты
spm
h2s04/h202
Удаление органических загрязнений (напр. следов фоторезиста)
Окисление
Попадание частиц,
осаждение
сульфатов
hf-dip
hf/h20
Удаление оксидов, металлов из двуокиси кремния
Растворение
двуокиси
кремния
Попадание частиц, обратное осаждение благородных металлов
SC-1
NH4OH/H202/h20
Удаление частиц
неорганических загрязнений
Травление
кремния,
окисление
Повторное осаждение ионов металлов (напр. Al3+, Fe3+, Zn2+), поверхностная шероховатость
sc-2
hci/h2o2/h2o
Удаление ионов металлов
Комплексо-
образование,
гидролиз
Попадание частиц (коррозия)
66
rss
Карта
 






Страницы: 1 2 3... 63 64 65 66 67 68 69... 734 735 736

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу


Сварка на контактных машинах
Краткий справочник технолога-термиста
Спутник термиста
Новые материалы
Твердые сплавы
Цементация стали
Зварювальні матеріали

rss
Карта