Новые материалы






Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Новые материалы

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .



Страницы: 1 2 3... 638 639 640 641 642 643 644... 734 735 736
 

9. ПЕРСПЕКТИВНЫЕ ПОЛИМЕРНЫЕ МАТЕРИАЛЫ СО СПЕЦИАЛЬНЫМИ СВОЙСТВАМИ
Таблица 9.11. Характеристики сухих пленочных фоторезистов, содержащих нена­сыщенную полиамидокислоту на основе диангидрида 3,3',4,4'-тетра-карбоновой кислоты 4,4'-дифенокси-(2,20дифенил)-пропана и 4,4'-ди-аминодифенилоксида с молекулярной массой 12500
Свойства
композиций
10
11
12
13
14
15
16
17
18
Оптимальное время экспонирования, мин
3,5
3
2,5
3
2,5
2,5
3,5
3
3
Время проявления светочувствительного
3
2,5
2,5
3
2,5
2,5
3,5
3
3
слоя (гр.ра = 25 °С), мин
min 0 изгиба защитного покрытия
6
4
5
10
8
9
5
4
5
при испытании на гибкость, мм
Адгезия к медной подложке, баллы
1
1
1
2
1
1
1
I
1
Время разрушения покрытия при
25
30
28
15
23
17
23
29
27
погружении в припой ПОС-61
при t = 400 °С, с
Разрешающая способность, мкм
45
35
40
60
45
45
50
45
45
ние основных показателей фоторезистов, а их увеличение снижает время разрушения покрытий при погружении в припой ПОС-61 (? = 400°С) до значений порядка 17...28 с.
Использование в составе фоторезистов ненасыщенной полиамидокис­лоты на основе диангидрида 3,3', 4,4'-тетракарбоновой кислоты 4,4'-дифенокси-(2,2-дифенил)-пропана и 4,4'-диаминодифенилоксида позво­ляет повысить, по сравнению с аналогичными по составу фоторезиста­ми, содержащими в качестве полимерной основы ненасыщенную полиамидокислоту на основе диангидрида 3,3', 4,4'-дифенилоксидтетра-карбоновой кислоты и 4,4'-диаминодифенилоксида, технологические ха­рактеристики материалов, что приводит к повышению производитель­ности труда при изготовлении защитных рельефов.
Сравнение эластических свойств термообработанных покрытий по­казало, что в случае использования ненасыщенной полиамидокислоты на основе диангидрида 3,3', 4,4'-дифенилоксидтетракарбоновой кисло­ты и 4,4'-диаминодифенилоксида наблюдается некоторое их снижение. Вследствие этого, области применения разработанных материалов бу­дут разными.
Очевидно, что на изменение эластических свойств покрытий оказы­вает влияние химическое строение используемой полиамидокислоты и прежде всего структура шарнирного фрагмента, связывающего арильные остатки в молекуле диангидрида. Кислородный мостик обеспечивает большую подвижность, чем изопропилиденовая группировка.
41 - 6928
641
rss
Карта
 






Страницы: 1 2 3... 638 639 640 641 642 643 644... 734 735 736

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу


Сварка на контактных машинах
Краткий справочник технолога-термиста
Спутник термиста
Новые материалы
Твердые сплавы
Цементация стали
Зварювальні матеріали

rss
Карта