Новые материалы

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Новые материалы

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .

Страницы: 1 2 3... 634 635 636 637 638 639 640... 734 735 736

	 9. ПЕРСПЕКТИВНЫЕ ПОЛИМЕРНЫЕ МАТЕРИАЛЫ СО СПЕЦИАЛЬНЫМИ СВОЙСТВАМИ лиамидокислот, а также для повышения их светочувстви­тельности, в состав фотополи-меризующихся композиций было решено вводить моди­фикаторы — ненасыщенные соединения, обеспечивающие нужные технологические свой­ства. Ненасыщенные мономеры или олигомеры, обычно при­меняемые в составе сшиваю­щихся под действием УФ-из-лучения систем, должны иметь малую токсичность, низкую упругость паров и высокую ре­ Рис. 9.7. Зависимость степени отверждения по­лимеров X, полученных полимеризацией нена­сыщенных мономеров, от времени экспониро­вания тэкс: / — ТГМ-3; 2 — диметакрилат этиленгликоля; 3 - МГФ-9; 4 - МГФ-1; 5 - МЭО; б - ТГМ-3:МГФ-9:МЭО = 1:1:1 акционную способность. Нами были исследованы серийно выпускаемые про­дукты: ТГМ-3 (диметакрилат триэтиленгликоля); диметак­ рилат этиленгликоля; МГФ-9 (диметакрилат-бис-(триэти-ленгликоль)-фталат); МГФ-1 (диметакрилат-бис-(этиленгликоль)-фталат); МЭО (метакрилированный эпоксидный олигомер ЭД-22). Была оценена активность этих мономеров в процессе фотохимической полимеризации в присутствии системы: бензофенон — кетон Михлера. Зависимости степени отверждения от времени экспонирования приведены на рис. 9.7. Поскольку ни один из ненасыщенных мономеров по совокупности свойств не обладает оптимальными характеристиками, в дальнейшем ис­пользовались смеси мономеров, взятых в различных соотношениях. Исследование процессов отверждения смесевых составов показало, что за 300 секунд экспонирования под лампой УФО содержание гель-фрак­ции для всех покрытий достигает высоких значений (85...90 %) (рис. 9.8). Таким образом, очевидно, что для достижения оптимальных характе­ристик фотоотверждаемых защитных покрытий необходимо осуществлять модификацию ненасыщенных полиамидокислот смесями диметакрилатов (МГФ-9: МЭО; ТГМ-3: МЭО, ТГМ-3: МГФ-9: МЭО). При этом ожида­ется, что улучшение совместимости мономеров со связующим будет спо- 637 rss Карта

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу