Новые материалы






Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Новые материалы

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .



Страницы: 1 2 3... 160 161 162 163 164 165 166... 734 735 736
 

2. МАТЕРИАЛЫ МИКРО- И НАНОЭЛЕКТРОНИКИ
Различие в площадях верхнего и нижнего металлических контактов приводит к неоднородному распределению плотности рабочего тока через выпрямительный диод в прямом направлении (в режиме инжек­ции), так как наибольшая плотность рабочего тока наблюдается у края верхнего электрода, имеющего меньшие геометрические размеры, поэто­му электротепловая неустойчивость (электротепловая деградация) значи­тельно больше у края верхнего электрода, чем у нижнего при приложе­нии к структуре диода прямого напряжения Unp.
Электрофизические недостатки присущи и кремниевым четырехслой-ным силовым структурам р-п-р-п-типа, представленным на рис. 2.21.
Для создания силовых кремниевых полупроводниковых приборов были предложены типы структур с двумя или тремя фасками, в кото­рых, тем не менее, не исключается проявление краевого эффекта из-за наличия поверхностного заряда с повышенной поверхностной плотнос­тью у краев плоских металлических контактов.
Более приемлемой конструкцией является кремниевая структура, имеющая форму «электрода Роговского» [52] (рис. 2.22), в которой рас­пределение напряженности электрического поля и его эквипотенциаль­ных линий имеют более однородную природу, что позволяет использо­вать такие структуры при обратных напряжениях в пределах 4...7кВ без скошенных боковых поверхностей р-и-переходов.
Другими словами, структура Si выпрямительного элемента должна повторять структуру контактных электродов, роль которых в структуре
Рис. 2.20. Зависимость отношения напряжения поверхностного про-f°* ^'проб к "^Ряжению объемно-пробоя (/об от плотности Q„ поверхностного заряда в кремние­вых р -л-л+-структурах
Рис. 2.21. Профили фасок р-п-р-п'^струк­туры на основе я-Si с удельным сопротив­лением, Ом • см:
a - 7; б- 500; а{ = Ю...350; а2 = 2...50; о3 = 3°
163
rss
Карта
 






Страницы: 1 2 3... 160 161 162 163 164 165 166... 734 735 736

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу


Сварка на контактных машинах
Краткий справочник технолога-термиста
Спутник термиста
Новые материалы
Твердые сплавы
Цементация стали
Зварювальні матеріали

rss
Карта