Новые материалы

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Новые материалы

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .

Страницы: 1 2 3... 123 124 125 126 127 128 129... 734 735 736

	 НОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ МДП-структуры позволил значительно расширить возможности метода постоянного тока. Из зависимости напряжения на структуре от време­ни определяются временные зависимости заряда, инжектированного в диэлектрик, и туннельного тока на всех этапах инжекции от стадии заряда емкости МДП-структуры до пробоя образца. Из временных за­висимостей тока инжекции и напряжения на образце может быть полу­чена ВАХ на участке туннельной инжекции, из которой при построе­нии ее в координатах Фаулера—Нордгейма можно определить высоту потенциального барьера на инжектирующей границе раздела и толщину диэлектрика. Минимальный уровень тока полученной ВАХ ограничен точностью измерений, а максимальный — значением /0. Из временных зависимостей напряжения на МДП-структуре на стадии инжекции, ког­да весь ток, пропускаемый через образец, является током инжекции, определяют сечения захвата зарядовых ловушек, изменение эффек­тивного заряда диэлектрика, заряд, инжектированный до пробоя. В области высоких полей определяется также напряжение микропробоя. Далее осуществляется инжекция в диэлектрик требуемой величины заряда, а изменение напряжения на МДП-структуре (см. рис. 2.8, учас­ток 4) характеризует явления зарядовой деградации. Затем проводится ступенчатое уменьшение амплитуды токового воздействия (см. рис. 2.8, участок 5). В результате удается измерить ВАХ сразу после сильнополе­вого воздействия и получить более полную картину зарядо­вой деградации диэлектрика. На следующем участке по­лярность токовой нагрузки из­меняют на противоположную и начинается перезарядка МДП-структуры (см. рис. 2.8, участок 6). Емкость МДП-структуры начинает разряжать­ся током постоянной величи­ны. Временные зависимости напряжения на структуре в области высоких и низких по­лей (см. рис. 2.8, участок 7) при разряде емкости позволя­ла. 2.8. Временные зависимости токов и напря- ют определять, С использова-жений в методе управляемой токовой нагрузки нием рассмотренных методик, 126 rss Карта

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу