Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 90 91 92 93 94 95 96... 412 413 414
|
|
|
|
Технология и аппаратура ВЧ-плазменного напыления получили распространение в наукоемных областях промышленного производства. Окончательная обработка ответственных поверхностей турбинных изделий, угловая скорость вращения которых превышает 2000 об/мин, осуществляется технологическим циклом, значительную долю которого составляет ВЧ-плазменное напыление для образования жаростойких и антиадгезионных газотермических покрытий. В табл. 5.1 приведены данные, характеризующие метод плазменного напыления как материалосберегающий технологический процесс. Газотермические покрытия, выполненные с использованием напыляемого материала из оксидов, обнаруживают повышенные характеристики жаростойкости в сочетании с низкой электропроводностью, а также свойства теплозащитного газотермического покрытия. Поскольку процесс термического диспергирования требует достаточно длительного энергетического воздействия на такой напыляемый материал, то подача оксидного исходного материала в зону газотермического напыления осуществляется не порошковым материалом, а в виде тонких прутков, спрессованных из порошковых оксидов с использованием связующих (пластификосторов). Типовой режим плазменного напыления порошков оксидов приведен в табл. 5.2. Таблица 5.1 Характеристика метода плазменного напыления по коэффициенту использования материалов (КИМ) Состав порошкового материала, % Расход -1 материала, кгч Плазма-образующий газ Производительность -1 напыления, егч КИМ А1 99 (крупный) 1,68 Аг 0,95 0,56 То же 2,12 Аг + Н2 1,54 073 То же 2,08 *2 1,45 0,7 Си 99,9 (мелкий) 3,72 Аг 2,30 0,62 То же 3,72 Аг + Н2 2,76 0,74 Си 99,3 (крупный) 5,0 Аг 3,22 0,64 То же 5,80 Аг + Н2 4,26 0,73 То же 4,67 N2 2,81 0,6 То же 4,90 Аг + Н2 3,08 0,63 186 і 'остав порошкового материала, % Расход материала, кгч Плазма-образующий газ Производительность -1 напыления, кг-ч КИМ Мо 99 (крупный) 2,35 Аг 2,08 0,88 То же 1,36 Аг + Н2 0,68 0,5 То же 7,75 N2 6,25 0,81 То же 8,07 ^+н2 6,76 0,84 У 99,5 (тонкий) 3,98 Аг 2,67 0,67 № 99,5 (крупный) 4,30 Аг 2,72 0,63 То же 3,54 Аг + Н2 1,82 0,51 То же 8,58 "2 5,50 0,64 | То же 8,80 к2+н2 5,72 0,65 Таблица 5.2 Характеристики типовых режимов плазменного напыления оксидов Параметр ъго 2 УО 2 ВеО Мощность, кВт 20 20 30 Расход плазмообразующего газа, м3/ч 1,7 1,7 1,95 Подача порошка, г/мин 10 30 _ Расход транспортирующего газа, м3/ч 0,16 0,17 0,45 Дистанция напыления, мм 100 100 75 Размер частиц порошка, мкм 43-74 43-74 20-60 Диаметр сопла, мм 6 В таблице 5.3 приведены свойства некоторых газотермических покрытий из порошковых оксидов.^ --ь......Р^Ц':-ЩЦ;,,Ф л.....шхл 187 л л -71
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 90 91 92 93 94 95 96... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
