Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 89 90 91 92 93 94 95... 412 413 414
|
|
|
|
блока технического (с блокомч' нагрузочного контура, приводом и пультом управления .............. 1000x2350x3260 1 Проведение обработки при атмосферном давлении обусловли-I вает простоту обслуживания установки, а также ее низкую 1 стоимость. Высокая надежность работы установки "Плазма-401" (может работать в непрерывном режиме), благоприятные условия для ее автоматизации, высокая производительность позволяют '. получить значительную экономию материальных и трудовых с ресурсов. ? Перспективы развития метода упрочнения в ВЧ-плазме при г атмосферном давлении связаны с разработкой новых специали-р зированных модификаций установок, а также по выбору и а оптимизации составов упрочняющих покрытий. При проведении ВЧ-плазменного напыления в условиях V открытой атмосферы по традиционной схеме технологии произ-•]*одства газотермического покрытия: поток плазмы, истекая из сопла, претерпевает интенсивное турбулентное перемешивание с окружающим воздухом, что приводит к уменьшению скорости частиц напыляемого материала, начиная с некоторого расстояния от среза сопла, и к захолаживанию. В результате возрастает вероятность появления непрогретых частиц в зоне формирования покрытия. Другим вредным эффектом является возможность протекания неконтролируемых химических реакций с газами воздуха. Есть два пути преодоления возникающих при этом проблем. Первый это создание ламинарного потока плазмы на выходе из плазматрона, в результате чего предотвращается подмешивание холодного газа в гетерофазный напылительный поток. Такие аппараты позволяют создавать ламинарную струю плазмы большой протяженности. Порошковый материал вводится в струю плазмы на срезе анода с минимальным количеством транспортирующего газа или без него. Так как высокотемпературная зона в этом потоке имеет большую протяженность (100-700 мм вместо 50 мм у дозвукового турбулентного), то частицы материала лучше проплавляются из-за увеличения времени пребывания их в высокотемпературной области потока. Скорость частиц при напылении может достигать 100-500 м/с, а их температура -превышать температуру плавления. Ламинарная струя плазмы имеет малую площадь сечения и малый угол расходимости (1-3°), что приводит к повышению коэффициента использования материала при напылении на мелкие детали. Кроме того, может быть снижен расход плазмообразующего газа до 10 л/мин. Уменьшаются энергетические затраты и значительно снижается уровень 184 шума до 30-70 дБ вместо 120-130 дБ при традиционном напылении плазмой. Второй путь напыление сверхзвуковым плазмотроном в камере с разреженной атмосферой. В этом случае генерируемый плазматроном поток истекает в объем вакуумной охлаждаемой камеры, где в течение всего времени напыления поддерживается требуемое давление, исходя из особенностей нанесения заданного гпзотермического покрытия, величины динамического вакуума -от 1,33 Па до 40 Па. В этом случае также отсутствует интенсивное перемешивание истекающей струи плазмы с холодным окружающим газом, и высокотемпературная зона может достигать протяженности в 200-700 и даже 1000 мм. Однако в отличие от ламинарного плазматрона при напылении сверхзвуковой горелкой частицы напыляемого материала удается ускорять до скоростей в 500-1000 м/с. Это приводит к получению покрытий, обладающих пористостью менее 1%, прочностью сцепления с основой более 50-70 МПа. Дополнительным важным преимуществом таких систем является возможность получения покрытий, свободных от оксидов и других продуктов неконтролируемых реакций, протекающих при традиционном напылении между частицами материала и компонентами воздуха. Большой выигрыш дает использование дополнительного разряда, зажигаемого между анодом плазматрона и основой (или между дополнительным электродом и основой). ')то позволяет, не окисляя основы в условиях вакуума, повысить температурный уровень процесса с целью термоактивации основы и дополнительного вклада энергии в энтальпию газотермического потока, а также провести очистку границ раздела между частицами в покрытии при его формировании и границы раздела покрытия с основой перед напылением. Наконец, становится возможным частичное или полное выполнение термообработки изделия с покрытием в едином технологическом звене с операцией напыления. Использование технологических возможностей среды динамического вакуума позволяет одновременно с нанесением газотермического покрытия проводить его термообработку оплавлением, добиваясь при этом эффекта оплавления основы на глубину подслоя до 0,5 мм, усиливая этим газотермическую адгезию основы с напыляемым покрытием из карбидов металлов. Кроме того, среда динамического вакуума позволяет выполнять ВЧ-плазменное напыление с околозвуковой скоростью движения двухфазного газотермического потока, что повышает производительность ВЧ-плазменной установки и образует газотермическое покрытие многофункционального назначения. 185
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 89 90 91 92 93 94 95... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
