Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 88 89 90 91 92 93 94... 412 413 414
|
|
|
|
вает пространство вокруг газоразрядной (рабочей) камеры и возникновения дугового разряда в объеме газоразрядной камеры -наводит электромагнитное поле в зону эл. разряда, повышая тем самым энтальпию рабочего пространства, способную термическим способом диспергировать инжектируемый в ионизированную газовую струю порошок напыляемого материала. Инициирующая ионизация плазмообразующих газов, прокачиваемых через рабочее пространство газоразрядной камеры, осуществляется в зависимости от организации технологической схемы ВЧ-плазменного напыления (что соответствует термодинамическому равновесному состоянию среды газотермического потока) посредством возбуждения электродугового разряда, разогрева корпуса инициатора газовой ионизации или использования электрического пробоя. Во время работы плазма принимает форму ярко светящегося удлиненного эллипсоида с центром свечения, смещенного относительно индуктора вниз по прокачиваемому потоку ионизированного газа. В высокочастотном плазматроне достигается менее высокая температура плазменного факела, чем в дуговом, но характер ее распределения практически тот же, что и в дуговом плазматроне (рис. 1.5.1.2). ВЧ-плазматроны имеют технологическое ограничение, связанное с соотношением расхода прокачиваемого плазмообразующего газа и величины анодного напряжения: увеличение порционного расхода ионизируемого газа при постоянной величине анодного напряжения вызывает распад плазмы из-за снижения уровня ее ионизации. При малых анодных напряжениях плазма также распадается. Ограничением для ВЧ-плазматрона является и характеристика кварцевой трубки, граничные условия которой накладывают ограничения и на мощностные характеристики ВЧ-плазматрона в целом. Обычно в качестве источника эл. питания применяют генератор типа ВЧН-63/5 мощностью 60 кВт при частоте тока 5,28 МГц. Степень теплового диспергирования напыляемого материала, а следовательно, качество газотермической адгезии при ВЧ-плаз-менном напылении, зависит от величины глубины прогрева плазмы, которая оценивается соотношением \ = 50т,ш где р-ударное сопротивление плазмы, Ом/см;-щ. 1-частота поля, МГц." 2. Практика ВЧ-плазменного напыления Упрочнение поверхности промышленного инструментария и технологических приспособлений, где твердость и износостойкость поверхности играют определяющую роль, наиболее эффек 182 гинно достигается средствами ВЧ-плазменной технологии нанесения газотермического покрытия. Применение высокоэнергетической высокочастотной индукционной плазмы, содержащей углерод и кремний, позволило получить на деталях переходную зону с особыми свойствами: высокой тнердостью и прочностью одновременно, высоким сопротивлением ударным нагрузкам и разгаростойкостью. В то же время благодаря топкому внешнему слою покрытия очень высокой твердости деталь приобретает высокую износостойкость, примерно в 2,5 раза превышающую износостойкость детали после обычной термической обработки. Разработанный процесс характеризуется отсутствием продав-ливания слоя в условиях повышенных динамических нагрузок, пониженной температурой объемного (интегрального) нагрева деталей (180-200°С). Кроме того, покрытие из карбида кремния не изменяет исходную шероховатость поверхности деталей. Преимущества ВЧ-плазменного напыления в производстве упрочняющих газотермических покрытий режущего и давильного инструмента реализованы в конструкции опытно-промышленной установки "Плазма-401", позволяющей наносить такие покрытия без специальной защиты зоны газотермического напыления. Характеристики установки "Плазма-401": Потребляемая мощность, кВт............... 96 Площадь единовременного напыления, см2....... 60 Время напыления, с ....................20-90 Диаметр установочных столиков, мм .......... 200 Раствор охлаждаемой воды при температуре на входе от 5 до 30°С, м3/ч, не менее ............. 6 Давление в системе водоохлаждения, МПа......0,2-0,05 Рабочий газ......................... Аргон Расход рабочего газа, м3/ч ................ 3-10 Давление в плазматроне, МПа.............. 0,1 Расход охлаждающего воздуха, м3/ч, не более ". ... 1200 Давление сжатого воздуха, МПа............. 0,4 Масса установки, кг .................... 3200 в том числе: блока генераторного.................. 1770 блока технического (с блоком нагрузочного контура, приводом и пультом управления)...... 1350 Габаритные размеры, мм: блока генераторного............ 1340x2000x2280 я"? 183
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 88 89 90 91 92 93 94... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
