Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 87 88 89 90 91 92 93... 412 413 414
|
|
|
|
49 1.5. Высокочастотное плазменное напыление (ВЧ-плазменное напыление)' 1. Технологические особенности, ВЧ-плазменного напыления. Высокочастотное плазменное напыление это разновидность плазменного газотермического напыления, выделившееся в само-стсйтельно существующий метод газотермического напыления благодаря его энергетической особенности, проявляемой в характеристиках источника тепловой энергии, необходимой для диспергирования вещества напыляемого материала. Схема высокочастотной плазменной установки представлена на рисунке 1.17. ВЧ-плазменное напыление подразумевает использование ВЧ-плазматрона как рабочего инструмента термического диспергирования напыляемого материала разогрев его вещества до температур плавления или испарения, если получаемое газотермическое покрытие должно приобрести особокачественные характеристики, требующие оптимизации газового состава в среде плазменного газотермического факела или условий динамического вакуума, при которых происходит направленная конденсация паров вещества напыляемого материала. В конструкции типового ВЧ-плазматрона используют рабочую камеру, где в качестве распылителя применяется набор кварцевых стержней с суммарной площадью испарения до 5000 мм2, а плазмообразующего газа -аргон. Конструкция технологического узла ВЧ-плазматрона состоит из газоразрядной (рабочей) камеры, газораспределительной головки и индуктора. Принцип работы высокочастотной плазменной горелки основан на возможности высокочастотного индукционного разогрева плазмы (как электропроводящей среды) электромагнитным полем высокой частоты. Плазма в этом случае играет роль короткозамкнутого одновиткового проводника, являющегося вторичной обмоткой трансформатора, у которой первичной является сама высокочастотная обмотка. В конструкционном отношении схема организации высокочастотного плазматрона достаточно проста: газоразрядная (рабочая) камера выполнена из тугоплавкой неэлектропроводной трубки, материалом которой в основном является кварц. Газоразрядная камера с одной стороны прокачивается плазмообразующим газом, с другой стороны она свободно сообщается с атмосферой. В газоразрядную камеру монтируется устройство предварительной (инициирующей) ионизации газа, поскольку в нормальных условиях газы не электропроводны и, следовательно, не обнаруживают свойств электрической проводимости. Индуктор охваты 180 Вода Рис 1 16 Схема высокочастотной плазменной установки: 1 вибратор, 2 порошок, 3 питатель, 4кварцевая камера, 5 _ трубка ввода порошка, 6 плазма, 7 -холодильник 8 " ^";9 циклон 10 вентиль, 11 холодильник, 12 сборник, 13 форвакуумний насос, 14 вентиль, 15 индуктор, 16 ввод газа. л,..л1„.,-.,.. 181
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 87 88 89 90 91 92 93... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
