Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 76 77 78 79 80 81 82... 412 413 414
|
|
|
|
по величине газового давления в рабочей камере и по методу регенерации использованной газовой среды. По методу получения газопламенного факела различают газотермические плазменные установки с электродуговыми плаз-матронами и высокочастотными индукционными плазматронами. По способу изоляции рабочего объема камеры плазменного напыления существует три типа газотермических плазменных установок. Большинство установок выпускается для ведения процесса на воздухе. Для напыления с местной защитой используют различные насадки на плазматрон, местные негерметичные камеры и другие устройства. Большое распространение получают установки для плазменного напыления с общей защитой процесса в герметичных жестких камерах. Жесткие ограничения, накладываемые природой вещества напыляемых материалов на энергетические возможности газотермических плазменных установок, и высокие эксплуатационные требования, предъявляемые к физико-механическим и химико-технологическим характеристикам плазменных покрытий, побуждают активно использовать феномен динамического вакуума или полностью контролируемой атмосферы рабочей среды плазменного газотермического напыления. В этом случае процесс плазменного напыления проводится либо при нормальном атмосферном давлении инертной газовой среды в рабочей камере, либо при малом вакуумном разряжении (133-200 Па). В качестве источников питания для обеспечения процесса плазменного напыления могут использоваться сварочные машины-преобразователи АПР-402, ИПН-301, ПД-502У или полупроводниковые выпрямители, которые в зависимости от требуемой мощности могут соединяться параллельно или последовательно. Однако особенности сжатой эл. дуги и специфика технологии плазменного напыления потребовали создания специальных источников питания дуговых плазматронов. Большое распространение также в установках, предназначенных для плазменного напыления, получили источники питания на тиристорах с регулируемым углом открывания последних относительно начала синусоиды напряжения питающей сети. Этим можно регулировать среднее значение выпрямленного напряжения и тока. Выпрямитель, собранный на тиристорах, исключает необходимость в дополнительных регулирующих силовых элементах (дросселях насыщения, магнитных шунтах, дополнительных реактивных элементах). Для управления тиристорами используют фазосдвигающее устройство. В практике плазменного напыления в настоящее время наибольшее распространение получили источники ИПН-160/600, применяются также АПР-402, АПР-403. 158 Свойства покрытий, формирующихся в процессе плазменного напыления, в решающей степени зависят от конструкции и характеристик плазматрона как рабочего инструмента плазменного напыления, который при длительной непрерывной работе и высокой энергетической эффективности должен обеспечить стабильность параметров плазменного потока, иметь надежную конструкцию и быть простым в эксплуатации. Наибольшее распространение в технологии нанесения покрытий и изготовления деталей получили дуговые и струйные плазменные горелки (рис. 1.14), принципиальная схема электропитания плазменной горелки представлена на рисунке 1.15, а схема конструкции питателя на рисунке 1.16. Применяются плазматроны постоянного тока с самоустанавливающейся или частично фиксированной (уступ в сопле) длиной дуги, что связано с простотой их конструкции, малыми габаритами и серийно выпускаемыми установками (УМП-6, УПУ-7 и УПУ-8), а также обеспечением хороших энергетических и технологических показателей. В отличии от данного типа, плазматроны с межэлектродными вставками (МЭВ) хотя и имеют более сложную конструкцию, но за счет большей длины фиксированной дуги обладают большим ресурсом работы электродов при высокой мощности плазменной струи. Эти плазматроны перспективны при механизированном процессе напыления. Для дополнения можно указать, что плазматрон ПН-14м стабильно и надежно работает на аргоне при небольших токах дуги (100-350А) и напряжении между электродами 80-150В. Успешно применяются такие новые установки, как АРП-403, ОБ-1255, УН-108, Плазма НИТИМ-600, 15В-Б и др. Прогрессивными у нас в стране являются полуавтоматические установки 15В-Б и установки УМП-8, УМП-7, УПУ-7, УПУ-8, УН-115, 118, 120. Новый этап развития ГТН прежде всего характеризуется повышением уровня автоматизации процесса. Полуавтомат 15В-Б представляет собой первый шаг на пути создания автоматизированных установок для плазменного нанесения покрытий. Он позволяет напылять покрытия на плоские и цилиндрические поверхности. Полуавтомат может быть рекомендован к применению в мелкосерийном и ремонтном производствах с широким ассортиментом напыляемых деталей, а также может быть использован в составе механизированного комплекса. В комплект полуавтомата входят: камера напыления; манипулятор для перемещения плазматрона по двум взаимно перпендикулярным координатам, расположенным в горизонтальной плоскости; вращатель детали с осью вращения, расположенный mi
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 76 77 78 79 80 81 82... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
