Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 162 163 164 165 166 167 168... 412 413 414
|
|
|
|
нагрев подложки, так как требуемый ионный ток достигается при пониженном потенциале смещения. Данная система позволяет увеличить коэффициент ионизации до 5%, поднять плотность ионного тока с 0,3 до 3 мА/см2 и при этом уменьшить давление до 10'3 12,3 Па. Важным достоинством источника испарения в виде пушки с полым катодом является, как уже отмечалось, низкая энергия генерируемых электронов, благодаря чему они эффективно ионизируют испаряющиеся атомы, обеспечивая степень ионизации парового потока до 40% (в зависимости от испаряемого материала). Это устраняет необходимость формирования дополнительных систем для ионизации парового потока. Возможно также получение керамических соединений при использовании твердой мишени аналогичного состава, которую подвергают ионному распылению (ионное осаждение распылением). При типичных условиях ионного осаждения в данной системе (данное напряжение (катодное) 3 кВ, плотность ионного тока 0,5 мА/см2, давление 210"212,3 Па) ионами переносится 10% энергии, нейтральными частицами 90%. Средняя энергия ионов и нейтральных частиц около 100 эВ. Благодаря ионной обработке повышается частота конденсатора, улучшается структура, растет плотность и адгезионная прочность покрытия. Наблюдается переход от нормальной столбчатой структуры к более плотной равноосной структуре зерен. Повышенная плотность зародышей создает условия для получения очень плотных однородных осадков при пониженных температурах. Установлено, что регулированием потенциала на подложке можно осадить покрытие с заданной ориентировкой (например, по отношению к подложке), что обеспечивает хорошую адгезию и износостойкость покрытия. В частности, максимальная износостойкость покрытий из Т\С и ТЖ толщиной по 5 мкм, полученных по диодной схеме с электронно-лучевым испарением, достигается при потенциалах на подложке соответственно 400 и 200 В, которые обеспечивают предпочтительную ориентировку структуры. Твердые керамические соединения в основном осаждают в атмосфере, содержащей реактивные газы: азот, кислород, метан, ацетилен и др. Реактивным ионным осаждением к настоящему времени получены такие износостойкие соединения, как Т1, ТО^, Т1 (С, Л), Сг1Ч, Сг203, ггС, \¥С, ШС, ТаГМ, 8.31\4, ВМ, А!203. На получение соответствующих соединений существенное влияние оказывают, кроме парциального давления газа, энерге 330 пшческие параметры процесса. Так при ускоряющемся потенциале на изделии более 5 кВт и плотности ионного тока 0,4-0,5 мА/см2 на деталях формируется слой, состоящий преимущественно из ТО*. При увеличении плотности тока до 0,5 до 1 мА/см2 (|юрмируется слой Т121Ч. При ВЧ-ионном осаждении ТЮ с использованием ацетилена необходимо очень тщательно контролировать температуру подложки пропорционально которой происходит выделение углерода. При этом нужно строго выдерживать С(Х)тношение между скоростью испарения титана электронным лучом и концентрацией С2Н2с тем, чтобы ВЧ-разряд обеспечивал полную активацию. В зависимости от условий процесса состав пленки может меняться от СП+ТЮ)до Т1С. От вида газа зависит рабочее давление при осаждении. При применении метана СН4и ацетилена С2Н2 максимальное отношение СЛП~0,88 достигалось соответственно при парциальном давлении 510-412,3 и 2,510"412,3 Па. Для осаждения TiN парциальное давление азота должно находиться в пределах (0,3+1,510"2-12,3 Па), а для получения наибольшей износостойкости около 3,5-10'2-12,3 Па. Установлено, что при прерывистом точении ионное осаждение обеспечивает более высокую стойкость инструмента, чем газофазное осаждение. При непрерывном точении характеристики инструмента подобны. Оборудование для ионного осаждения с электронно-лучевым испарением при наличии термоэмиттера используется для азотирования поверхности инструмента в плазме низкого давления. (5+50) 10"1 12,3 Па перед осаждением TiN.fi Японии применяется установка с электронной пушкой с полым катодом, имеющая следующие основные параметры: напряжение 10 В, сила тока 300-600 А, коэффициент ионизации 20-40%, давление 10"1-12,3 Па, отрицательный потенциал на изделии 500 В, температура нагрева изделия 500"С,толщина покрытия ТСШОмкм, реактивный газ N2 или С2Н2. Фирма иЬУАС наладила серийное производство установок УРВ-30/30^ с электронно-лучевым испарителем для ионного осаждения. Покрытие толщиной 3-5 мкм наносится за один цикл длительностью 50 мин. Степень ионизации потока пара составляет за один цикл длительностью до 50 мин. Степень ионизации потока пара составляет 2-3%, если установка не оснащена дополнительными электродами-эмиттерами, ионной пушкой или ВЧ-электродом. Ионное осаждение с электронно-лучевым нагревом используется в установке ВАЬ-730 фирмы Вакегзф). им*. июл1У*ц"мла*" V 331
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 162 163 164 165 166 167 168... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |