Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 157 158 159 160 161 162 163... 412 413 414
|
|
|
|
раз (результаты испытаний инструмента с покрытием, нанесенным ионным распылением в табл. 3.7). Для успешной эксплуатации этих сложных установок необходим перевод их на автоматическое управление ходом нанесения покрытия при помощи микропроцессора. В случае ручного управления из-за высокой скорости формирования покрытия трудно обеспечить стабильность параметров, а следовательно, высокое качество покрытия. Фирма "Лейбольд Хереус" (Германия) разработала установку со сдвоенными магнетрониыми узлами, позволяющую наносить такие покрытия как TiC, TiN, TiCN, CrN, WN, TaN на детали без их вращения. Одна из серийных установок этой фирмы А100023\4(автоматизированная, многокамерная) производит до 600 сверл диаметром 6 мм или 800 фрез диаметром 150 мм за смену. В настоящее время магнетронные распылительные системы широко применяются для металлизации интегральных схем и полупроводниковых приборов. По мере совершенствования эти системы также успешно используются для металлизации печатных плат, осаждения металлических пленок на непрерывно движущуюся ленту (в том числе из мацлара или полиамида) без нагрева последней, изготовления полосковых линий для приборов СВЧ-диапазона, получения нитрида кремния, для защиты интегральных схем и других целей. Значительный прогресс в технологии обработки поверхности деталей и изделий обусловлен развитием и использованием метода магнетронного распыления. В большей мере это относится к области машиностроения: нанесения износостойких, антикоррозийных, термостойких, высокотвердых, декоративных и других видов покрытий. ' Перспективно применение магнетронной распылительной си-' стемы для получения качественных покрытий толщиной до *нескольких десятков микрон из ряда сплавов и чистых металлов. I Покрытия получают на вакуумной установке УРМ-3-279-011, *оборудованной источником для магнетронного распыления с 1 плоским круглым катодом. Диаметр катода 130 мм, потребляемая мощность 5кВт. Процесс газового разряда осуществляется л в системе при давлении рабочего газа (Аг) 0,1-0,6 Па. Низкотемпературная плазма разряда локализуется вблизи поверхности твердой мишени катода магнитным полем напряженностью 300-79,5775 А/м, создаваемым расположенными за катодом постоянными магнитами. Зажигающее заряд напряжение составляет 1000 В. Рабочее напряжение 600-800 В, сила тока 4-5 А. В указанном интервале технологических параметров прово 3 320 " о а о, S3 в I и о 2 а S % к я g S о к а to 0ч * 2 g t 6 Ойа.яоСяввн: S I S Г е Я а, 5 о S э S I -н с в о я 5 sis о "8 э 1Л о В о х э t ; о j J Б. Й х 9 Э a а 1 •" " ?N 2 (ЦоВ-S 1 М03 м а. в a. s ^ I S Я g со & я 5*1 в о * . о го о 8 В К 2 S © "8 a го 5? sis a Ш п й S х " gg со VO со " о о в о " ее а. СО S? 321
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 157 158 159 160 161 162 163... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
