Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 156 157 158 159 160 161 162... 412 413 414
|
|
|
|
ней, ее большие потенциальные возможности для широкот промышленного использования. Магнетронная система в 4 раза более энергетически эффективна, чем диодная, т.е. при одной и той же подводимой мощности в магнетронной системе распыля ется в 4 раза больше наносимого вещества. Следует также учесть, что диодная система работает при давлении на порядок выше, чем магнетронная, и в ней происходит возвращение распыленных атомов на мишень за счет обратной диффузии и рассеяния, и это еще больше снижает энергетическую эффективность диодной схемы по сравнению с магнетронной. Энергетическая эффективность магнетронных систем на постоянном токе выше, чем у В Ч маг нетронных, так как в последних при примерно одинаковых энергиях бомбардирующих ионов ионные токи сравнительно меньше. В настоящее время наибольшей энергетической эффективностью из всех распылительных систем обладают магнетронные системы постоянного тока, в которых максимальная энергетическая эффективность процесса ионного распыления сочетается с высоким коэффициентом преобразования подводимой к системе мощности (таблица 3.4). Линия состоит из блоков загрузки и выгрузки с двумя шлюзовыми камерами на каждом блоке, камеры активации поверхности напыляемой заготовки тлеющим разрядом и промежуточной камеры, а также содержит основной блок с магнетронной распылительной системой (MPC), в камеру которого подается плазмообразующий газ аргон. Линия оснащена форвакуумными насосами типа АВЗ-63Д и АВЗ-90, паромасляными бустерными насосами НВБМ-2,5 и НВБМ-5, а также высоковакуумными насосами Н-400/7000. Скорость напыления меди составляет около 1 мкм/мин. Максимальный размер заготовки 500x600 мм. Напыление двустороннее от автономных MPC, оснащенных источниками питания. Общая мощность линии составляет около 400 кВт. Линия УН-101 имеет АСУТП "Напыление" на базе двух микро-ЭВМ "Электроника-бОМ", анализирующих информацию аналоговых и дискретных датчиков. АСУТП обеспечивает выполнение заданного технологического процесса и выдачу паспорта на каждую партию заготовок. Основные параметры магнетронных систем ионного распыления: -удельная скорость| распыления 4-40-10"5 г/см2 • с; -эффективность процессаI генерации (по меди) 3-Ю"6 г/Дж; \~ -энергия генерируемых| частиц *.^"щ\шшЩо эшшм 10-20 эВ; :вй*гт. "*н№ 318 янрргия осаждаемых частиц 0,2-10,0 эВ; сжнюсть осаждения10-60 нм/с; рабочее давление(5-50) • 10"2 Па. направление перспективно, так как позволяет на больших (ИоН1|дях получать покрытия с высокой скоростью напыления l^ii I мкм/мин). На основе указанного принципа советскими ffKMiiinлистами создан пленарный магнетрон "Мир" 1/10" для Цйшн сипя покрытий, технические характеристики которого пред-Р^йй'1гиы ниже. Основная особенность магнетрона дифферен-Мйячмшя подача газов: распылительного (аргона) для распыления Мишени, реактивного (азота) в зону осаждения покрытия -•Инрстиснно улучшает процесс образования химического соединения стехиометрического состава и не снижает при этом Но'|мх.п распыления. Технические характеристики магнетрона "Мир 1/10": Мощность, кВт.......................... 10 Напряжение, В: поджига разряда...................... 1000 разряда ............................ 500 ионизации реактивного газа............... 100 Гила тока разряда, А ..................... 20 Рабочее давление, Па ...................6,6510-1 (510"3 мм.рт.ст) П'штность мощности, Вт/см2................ 500 rVtMcp распыляемой мишени, мм: диаметр150 толщина10 Скорость осаждения покрытия на дистанции 600 мм на плоскую поверхность, мкм/мин: титана ............................1,0-1,5 нитрида титана .......................0,5-0,8 ниобия............................1,0-2,0 Размеры магнетрона, мм: диаметр ........................... 300 высота ............................. 400 Масса, кг ............................ 6 Магнетрон разработан НИИ неорганических материалов Госкомитета по использованию атомной энергии и внедрен на ряде предприятий. Магнетрон применяется в составе установок для нанесения износостойких покрытий из нитридов титана и циркония на режущий инструмент, оснастку для прокачки и волочения, штампы. По данным НИИ неорганических материалов стойкость сверл, метчиков, разверток, фрез повышается в 3-5 V 319
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 156 157 158 159 160 161 162... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
