Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 152 153 154 155 156 157 158... 412 413 414
|
|
|
|
чтобы периодически нейтрализовать положительный заряд, х металлической пластине, расположенной непосредственно за распыляемой диэлектрической мишенью, прикладывают ВЧ-на-пряжение с частотой 1-20 МГц (наибольшее распространение для ВЧ-распыления получила частота 13,56 МГц, разрешенная для промышленного применения). При отрицательной полуволне напряжения на диэлектрической мишени (катоде) происходит обычное катодное распыление. В этот период поверхность мишени заряжается положительными ионами, из-за чего прекращается ионная бомбардировка мишени. При положительной полуволне напряжения происходит бомбардировка мишени электронами, которые нейтрализуют положительный заряд на поверхности мишени, позволяя производить распыление в следующем цикле. Основные параметры, достигаемые в установках ВЧ-распыления материалов: -удельная скорость распыления 210"7 2-10"6 г/см2с; -эффективность процесса распыления (по меди) -6107 г/Дж; -энергия генерируемых частиц 10-200 эВ;р -скорость осаждения 0,3—3,0 нм/с;^ -энергия осаждаемых частиц 0,2-20,0 эВ;^ -рабочее давление в камере установки 0,5-2,0 Па. Этим методом можно получить покрытие практически из любого материала, в том числе из диэлектриков и пластмасс. Метод катодного распыления обладает следующими преимуществами: возможность ионной очистки подложки непосредственно перед нанесением покрытия, получение покрытий из многих материалов практически без изменения их состава при распылении, высокий коэффициент использования материала, ! высокая однородность покрытия по толщине. Катодное распыление находит широкое применение в технике. Его используют при нанесении специальных покрытий для % оптических и электрооптических приборов. В изделиях электронной промышленности для контактов и электродов применяют пленки золота, серебра, платины, тантала, они отличаются высокой стабильностью электросопротивления, нитрид тантала и пленки некоторых сплавов используют для конденсаторов. Пленки 8Ю2, полученные методом высокочастотного распыления, имеют лучшую стабильность и адгезию, чем полученные любым другим методом. Новым направлением в применении катодного распыления является нанесение твердых смазок (например, Мо82) и износостойких покрытий из хрома, вольфрама, нержавеющей стали и т.п. .. ..........,„.чммшМ№. "310 Катодное распыление является универсальной системой, позволяющей наносить на поверхности деталей практически любые материалы. Фирма ЬеуЬоИНегаепя (Германия) в течениие 25 лет активно работает в этой области, получая износостойкие и декоративные покрытия, в основном из нитрида титана. Износостойкость покрытий, нанесенных катодным распылением, существенно зависит от твердости подложки, от адгезии к основе и технологии нанесения. Так, например, долговечность пленки А12Оэ, нанесенной на алюминиевый сплав, углеродистую сталь, коррозионно-стойкую сталь и спеченный карбид, возрастает при увеличении твердости основы. Метод катодного распыления особенно перспективен для нанесения покрытий из тугоплавких материалов, которые трудно нанести термическим испарением в вакууме. Несмотря на универсальность метода катодного распыления, основной его недостаток заключается в относительно низкой скорости осаждения покрытий. 2. Триодная схема ионного распыления Более совершенной по сравнению с диодной системой катодного распыления является триодная (рис. 2.2, б), в которой для увеличения количества распыляемых частиц и, следовательно, скорости осаждения покрытия степень ионизации в газовом разряде повышается с помощью потока электронов. Плазма разряда фокусируется магнитным полем и может существовать при достаточно низких давлениях (~ 10~1 Па). В основном применяют продольное магнитное поле, параллельное электрическому полю в темном катодном пространстве, в результате чего возрастает эффективная длина пути электронов и, как следствие, степень ионизации рабочего газа. Деталь размещается против мишени, которая заряжена отрицательно и бомбардируется ионами аргона, распыляющими ее. В результате на поверхности детали осаждается материал мишени. Так, в процессе нанесения покрытий на турбинные лопатки при давлении аргона 10"1 Па, потенциале мишени 0,7-1 кВ и плотности тока 3 мА/см2 скорость конденсации титана на расстоянии 3 см составляла 20 мм/мин. Необходимо отметить, что при рекционном нанесении покрытий с применением триодной схемы ионного распыления возникают определенные трудности, так как вспомогательный термокатод взаимодействует с активными газами и может быстро выходить из строя. 3. Магнетронная схема ионного распыления Магнетронные системы ионного распыления относятся к системам распыления диодного типа, в которых атомы распыля 311
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 152 153 154 155 156 157 158... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
