Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 150 151 152 153 154 155 156... 412 413 414
|
|
|
|
,и:ч^,?".™,г~~г-Таблица 3.1 Основные характеристики систем ионного распыления Система ионного распыления Давление, Па Потенциал на мишени, КВ Максимальная плотность мощности на мишени, Вт/мм Типичная скорость осаждения, мкм/ч Однородность покрытия по толщине, % Температура подложки, т'С Коэффициент использования мишени, % Расстояние от подложки до мишени, мм Диодная постоянного тока 36,9-10"2 4 3 7,0 4 350 60-80 50 с ВЧ-разрядом 98,4-Ю"2 2 5 7,0 4 250 60-80 50 Триод-ная 98,410~4 03-0,6 50 2,5 3-7 70 20 400 Магнетронная 24,610"3 0,6 30 100 7 90 30-50 50 Число столкновений зависит от расстояния между мишенью и подложкой, обычно рассматривают изменение реального "коэффициента распыления" как функцию произведения ра\ где р рабочее давление, (1 расстояние между мишенью и подложкой. При р-а= 1,33-10"2 Па/см доля распыленного вещества, осевшего на подложку = 0,99%, при ра= 1,33-10"1 соответственно 0,96, при ра=1,33 0,55; при ра=13,3 0,1; при 1,33-Ю'2 0,01. Из этих данных следует, что при ра=13,3 Па см на мишень возвратится до 90% распыленных атомов. При распылении платины доля заряженных частиц не превышает 0,01%, молибдена 0,1%, тантала и никеля 0,8%. Поскольку энергия распыленных частиц достигает десятков и сотен электроновольт, т.е. в десятки и сотни раз превышает тепловую энергию, частицы прибывают на подложку с высокими скоростями. Для примера можно привести следующие данные по энергиям и скоростям выбитых частиц при бомбардировке мишени ионами г^+с энергией 700-900 эВ: -для никеля 6,5 км/с (12,7 эВ), -для вольфрама 3,5 км/с (12 эВ), -для платины 4 км/с (16 эВ). Используемые в настоящее время ионные распылительные системы можно разделить на две основные группы (см. далее схему): 306 Рис. 2.2. Диодна, триодная, теїроднаа схемы ионного распыления. 1)плазмоионные, в которых мишень находится в газоразрядной плазме, создаваемой с помощью тлеющего, дугового или высокочастотного разряда, а распыление происходит за счет бомбардировки мишени ионами, извлекаемыми из плазмы, 2)с автономными ионными источниками без фокусировки и с фокусировкой ионных пучков, бомбардирующих мишень. Ионно-плазменные системы классифицируют: -по количеству электродов (диодные, триодные, тетродные); -по виду используемого напряжения (постоянное, высокочастотное) ; -по наличию или отсутствию потенциала на подложке (со смещением и без смещения). ,"""хят1 тцяАттг V307
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 150 151 152 153 154 155 156... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
