Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 147 148 149 150 151 152 153... 412 413 414
|
|
|
|
_Таблица 2. ; Рекомендуемые температуры испарения различных материалов для достижения ро = 1,33 Па. 8 Материал t , 'С и_ t , 'С _ пл_ t , 'с Материал V "с t *с С Кадмий 264 320 767 Вольфрам 3230 га' С 3345 _ пт' 5930 | Свинец 715 327 1744 Хлористый натрий 670 800,8 1465 |Серебро 1030 960 2212 Хлористый магний ИЗО 1263 2270 | Алюминий 1220 660 2370 Диоксид кремния 1250 1993 2250 | Медь 1260 1083 1595 Фтористый кальций 1300 1418 2530 | Золото 1400 1063 1530 Диоксид алюминия 1800 2320 3250 | Хром 1400 1845 1508 Никель 1530 1455 2730 Титан 1750 1672 3260 Платина 2100 1760 4410 Молибден 2530 2622 4804 Большое значение для стабилизации процесса имеет форма и размеры поверхности испарения. Такое сильное влияние оказывают следующие параметры: давление в камере, " дистанция напыления, 5температура поверхности изделия. Давление в камере (рк) выбирают от 10~2 Па и ниже. Дистанция напыления выбирается в пределах 150-250 мм. Температура поверхности напыляемых изделий наибольшее влияние оказывает на адгезионную и когезионную прочность покрытий и их структуру. Невысокие температуры (менее 0,3 от температуры плавления распыляемого материала) способствуют формированию на поверхности изделий слабо сцепленных покрытий с низкой когезионной прочностью. В таблице 2.4. приведены минимальные значения температуры напыляемых изделий для различных сочетаний материалов покрытия и изделия. 300 Таблица 2.4. Минимальные температуры (°С) напыляемых изделий для различных сочетаний материалов изделия и покрытия Материал покрытия Материал изделия: 1 Т! Си Мо Ft Nb N1 I Мп'шбден 650 500 750 350 400 400 | Х|М'М 650 450 700 600 400 J М.ч.. 400 450 400 350 | Illin 11. 350 500 350 Ранее рассмотренные параметры обеспечивают создание потока частиц, характеризующегося следующими показателями: плотность потока 1016 1019 частиц/см , средняя кинетическая ннгргия 0,2-0,5 эВ; степень ионизации 0,01-0,1%. Высокая плотность потока частиц обеспечивает повышенную производительность процесса. Скорость роста покрытий достигает I мкм/мин и выше. Нагрев распыляемого материала осуществляют джоулевым теплом. Передача теплоты от резистора к распыляемому материалу происходит или непосредственно, или через стенку тигля. По конструктивным признакам резистивные испарители разделяются на проволочные, ленточные, лодочные и тигельные. Нагрев и расплавление материала может осуществляться высокочастотным индуктором. При испарении материала образуется ноток пара, направленный к поверхности напыляемого изделия. Процесс ведут, как обычно, в жестких герметичных камерах, различных по конструктивному исполнению. По сравнению с резистивным нагревом индукционный высокочастотный нагрев значительно более эффективен. Наиболее часто встречающиеся схемы: а)с независимыми вакуумными системами рабочей камеры и камеры электронной пушки; б)с совмещенной вакуумной системой. Сущность нагрева заключается в электронной бомбардировке поверхности расплавляемого материала. Кинетическая энергия электронов расходуется, в основном, на нагрев и испарение материала. Наиболее значимым параметром процесса при электронно-лучевом напылении покрытий является мощность луча. Термические испарители (распылители) применяют в установках для напыления покрытий термическим испарением. V 301
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 147 148 149 150 151 152 153... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
