Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 146 147 148 149 150 151 152... 412 413 414
|
|
|
|
Очистка в парах дает гарантию окончательной очистки. Применяется замкнутый цикл. Выбросов в атмосферу нет, т.е. экологически надежный метод. 2. Нанесение покрытий термическим испарением Покрытия в вакууме получают конденсацией напыляемого .' материала на поверхности изделия. Для этого материал покрытия испаряют. Особенность процесса в том, что покрытие образуется • из атомов или ионов или же тех и других частиц одновременно. Поэтому для получения покрытий сложного состава из атомов ' различных элементов испарение проводят одновременно из *" нескольких источников, а паровые потоки смешивают. Поскольку ! потоки пара способны смешиваться в любой пропроции, покрытие может состоять из любых компонентов независимо от их взаимной я растворимости в твердом или жидком состоянии. Конденсацией "*" получают покрытия из различных сочетаний металлов между а. собой, металлов с оксидами, карбидами, нитридами, другими 1 химическими соединениями, также наносят покрытия из стехио-•; метрических соединений. Изменяя во времени производительность и интенсивность потоков пара, регулируют структуру . покрытия, получая микрослойные, многофазные, микропористые дисперсно-упрочненные и другие виды покрытий. Образование покрытия конденсацией определяется последовательным течением ряда сложных физико-химических процессов: 1)испарением исходного материала покрытия; 2)направленным массопереносом в виде потока атомов или ионов материала покрытия на поверхность основы; 3)соударением потока с поверхностью и последующей обсорбцией или десорбцией атомов или ионов на ней; 4)поверхностной диффузией атомов к местам предпочтительного образования зародышей покрытия; 5)миграцией и коалесценицией зародышей и ростом зародышей островков до срастания; 6)страстанием островков в сплошную пленку; 7)ростом сплошной пленки и образованием покрытия необходимой толщины. Распыление материала покрытий осуществляется посредством его термического испарения. Наиболее высокая эффективность испарения достигается при нагреве материала выше температуры его плавления. Однако возможно образование потока с достаточной для напыления концентрацией частиц и испарение твердого материала (хром и др.). Для нагрева распыляемого материала при термическом напылении применяют различные источники теплоты: резистивные, электронный и лазерный луч, индукционные. В соответствии с 298 ¡itnu различают способы напыления покрытий термическим и ипрспием. Для любого способа напыления необходим испарите чк Его назначение удерживать расплавленный материал при температуре, достаточной для получения требуемого давления Пй|Н)в (1-100 Па). Для большинства материалов, представляющих практический интерес, эти температуры превышают 1000°С. Наиболее чистый поток пара обеспечивают локальные способы ниереаа и удержания расплавленного материала. При других Способах нагрева неизбежно контактирование расплавленного мип'риала либо с материалом тигля, либо с материалом нагре-l*t геля прямой резистивный нагрев. При "контактном" нагреве Необходимо обеспечивать минимальную степень взаимодействия рис плавленного материала с тиглем или нагревателем. Кроме тот, материал тиглей и нагревателей следует выбирать с Незначительной упругостью паров с высокой стабильностью Состава. При соблюдении названных требований удается избегать Существенного загрязнения покрытий примесными частицами. Наиболее значимый показатель эффективности процесса -скорость испарения распыляемого материала. В общем случае ice материалы способны к испарению при температуре выше |бсолютного нуля. Условно принято считать температуру испарения такой, при которой давление насыщенных паров составляет 1,33 Па. Давление насыщенных паров (р0)как известно, опреде-/шется уравнением Калузиуса-Клапейрона. Большое влияние на скорость испарения, эффективный КПД, состав потока частиц и качество покрытий оказывает конструкция испарителя. Прежде всего испаритель должен обеспечивать минимальные тепловые потери от испаряемого материала. Общим параметром режима работы испарителя является тектрическая мощность, подводимая к источнику теплоты. С мощностью источника теплоты, распределением ее по поверхности нагрева связана температура испаряемого материала и поверхность испарения. Эти показатели в наибольшей мере ответственны за производительность процесса. В практике напыления реализуются мощности источника (электро) питания от 0,5 до 200 кВт. Давление насыщенных паров и скорость испарения при выбранном материале зависит от температуры поверхности испарения. Регулированием мощности источника теплоты доводят температуру испаряемого материала до значения, при котором р0 1,33 Па. С увеличением температуры испаряемого материала давление насыщенных паров резко возрастает. В таблице 2.3 приведены рекомендуемые температуры испарения различных материалов для достижения давления насыщенных паров, равного 1,33 Па.v V *299
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 146 147 148 149 150 151 152... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
