Технология упрочнения. Технологические методы упрочнения. В 2 т. Т. 1.
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 108 109 110 111 112 113 114... 412 413 414
|
|
|
|
Схема устройства плазменной пушки "Даймонд" Система управления плазменным процессом ток напряжение плазменные газы Аг,Не,Н2 газ-носитель ток дуговой напряжение разряда давление в рабочей камере во время распыления ЧПУ всеми осями координат рабочий орган манипулятор 1 рабочий орган манипулятор 2 форсунка манипулятор Органы управления и распределения -охлаждение водой компонентов -газы для охлаждения и очистки Периферийные компоненты электронные приборы генераторы накачки выключатели безопасности переключатели положения Установка по поддержанию вакуума Управление поддержанием вакуума в рабочей камере переходной камере системе герметизации вакуума механизмах, подающих порошок Терминал оператора чем 222 1.8. Дальнейшие пути автоматизации процесса плазменного напыления Можно выделить три направления в автоматизации процесса плазменного напыления это создание системы для поддержания и контроля режимов работы установки, создание системы, обеспечивающей получение деталей и покрытий с требуемыми геометрическими характеристиками и создание роботизированного участка. Для напыления деталей с требуемой геометрией необходимо кроме методики, позволяющей по заданным геометрическим характеристикам покрытия определять конкретные значения параметров управления формой и закон их регулирования, но и располагать техническими средствами для практической реализации найденных условий напыления. Так как управление характеристиками формы напыляемых покрытий наиболее удобно осуществляется за счет регулирования расхода напыляемого материала С, скорости перемещения пятна распыла V и шага поперечной подачи Б. Установка плазменного напыления должна иметь устройства, осуществляющие строгое дозирование материала и требуемое относительное перемещение распылителя и детали. Для дозирования порошка промышленные установки оснащаются питателями. Перемещение же распылителя и детали осуществляется средствами механизации. При напылении равнотолщинных покрытий на плоские поверхности параметры управления формой можно поддерживать постоянными на найденных номинальных уровнях и, следовательно, задача регулирования в данном случае сводится к их стабилизации. При напылении покрытий на поверхности вращения расход напыляемого материала также может поддерживаться постоянным, а кинематические параметры (1ф/иЧ, ау/иЧ, 1х/аЧ, аг/аЧ необходимо изменять в процессе напыления по установленным законам. В этом случае задача регулирования включает как стабилизацию параметров управления формой, так и их изменение по заданной программе. Следовательно, система регулирования расхода напыляемого материала и "кинематических параметров должна иметь программное управление, обеспечивающее работу регуляторов в режиме стабилизации и слежения. Для выработки требований к точности регулирования можно использовать уравнение: .1 :?1
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 108 109 110 111 112 113 114... 412 413 414
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
