Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 446 447 448 449 450 451 452... 494 495 496
|
|
|
|
проекционного метода обработки (например, без телескопической системы). Такой упрощенный вариант применяется в ряде выпускаемых в последнее время технологических установок. В случае, когда нет необходимости в уменьшении изображения маски и шотность энергии достаточна для проведения конкретного вида обработки, кроме телескопической системы можно исключить и проекционную, а маску непосредственно наложить на обрабатываемую заготовку. Следует отметить оптическую схему, предложенную в работе [20], для получения отверстий некруглой формы, состоящую из двух телескопических систем. Первая служит для расширена э светового яучяз. После нее устанавливается маска с вырезом сложной формы. Вторая телескопическая система проецирует изображение на поверхность детали. Расширение светового пучка первой телескопической системой благодаря уменьшению плотности и мощности позволяет использовать в качестве масок обычные фотодиапозитивы. Оптические системы технологических установок. Оптическая схема, реали зованная в установках СУ-1, УЛ-2, УЛ-20, приведена на рис. 15.10 [13, 20]. Энергетическая (фокусирующий объектив) и наблюдательная системы являются самостоятельными. Визуальная система представляет собой микроскоп с увеличением от нескольких крат до предельного для светового микроскопа, расположенного под углом к оптической оси фокусирующего объектива. Такое наклонное положение микроскопа в этих установках не позволяет вести обработку в углублениях (например, фильеры, алмазные волоки, приборные камни) или свари Ю 98 7 а) ¡5 Рыка лин Н Н и др. вать детали в условиях тесного монтажа. Часть поля зрения микроскопа оказывается нерезкой, форма рассматриваемых объективов искажена перспективой, что не позволяет проводить точный контроль и измерение параметров пробиваемых отверстий. Указанные недостатки отсутствуют в оптических системах, где визуальная и фокусирующая системы имеют общий объектив [3, 20]. Совмещения фокусирующих и визуальных систем достигают Применением отключающихся зеркал я призм (установки К-3, К-ЗМ), зеркала с отверстием (установка К-2) [20]. Оптическая схема установки К-3 приведена на рис. 15.11. Резонатор лазера образован зеркалами 4 и 9 (с коэффициентами отражения соответственно 0,05 и 0,5), между которыми установлен кристалл рубина 6(75X7 мм). Отражающие покрытия зеркал закрыты защитными стеклами 3 и Ю. Между зеркалом и кристаллом установлена ирисовая диафрагма 8, предназначенная для регулирования энергии потока излучения. Лампа 7 помещена вместе с кристаллом в Эллиптический отражатель 5 с полированными стенками. Фокусирование излучения осуществляется с помощью отрицательной линзы 11 и объектива 13 микроскопа. Для наводки излучения на обрабатываемый участок и наблюдения используются призма 12 и окуляр 16 Рис. 15.10. Оптическая схема установки СУ-1: а — сварка (шторка закрыта); б — наведение излучения на место сварки (шторка открыта); / 5 — призмы; 2 — корпус; 3 — лампочка, 4 — лазер; 6 — микроскоп; 7шторка; 8 — фокусирующий объектив; 9 — импульсная лампа; 10 — линза
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 446 447 448 449 450 451 452... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
