Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 432 433 434 435 436 437 438... 494 495 496
|
|
|
|
15.1. Технические характеристики лазерных установок импульсного действия на рубине Параметр СУ 1 К зм "Луч 1М" Максимальная потребляемая мощ 1,2 1 3 ность, кВт Длительность импульса, мс 1, 5 0,5, 2,5, 5,8 1 Частота повторения импульсов в 1 мин _4 3 180 Энергия излучения при длительности 1 2 2 генерации 1 мс, Дж Регулирование выходной энергии * НП НП НП Пятно сфокусированного излучения, 50 10—300 30—150 мкм Размеры рубинового стержня, мм 6,5X80 6,5X80 7X120 Источник оптической накачки — им ИФП-800 ИСПГ-6000 пульсная лампа УЛ-20 УЛ 2М, "Свет ЗО Параметр "Искра 8" Максимальная потребляемая мощ 5 3 5 ность, кВт Длительность импульса, мс 1, 3, 6, 8 1,6, 4,2, 1,2, 3,5, 7 5,8, 7,2 Частота повторения импульсов в 1 мин 12 60 12 Энергия излучения при длительности 20 8 30 генерации 1 мс, Дж НПСД НПСД Регулирование выходной энергии * НПСД Пятно сфокусированного излучения, 50 10 50 мкм Размеры рубинового стержня, мм Источник оптической накачки — им 11,5X120 7Х 120 16X240 ИФП-2000 ИФП 1200 ИФП-5000 пульсная лампа (4 шт.) * НП — регулирование напряжением зарядки, НПСД — напряжением зарядки, светофильтрами, диафрагмой ственного улучшения характеристик излучения газовых лазеров и увеличения значения энергетических параметров, что значительно увеличивает их технологические возможности. Основными параметрами, характеризующими технологические установки (и необходимыми для разработки любого заданного технологического процесса), следует считать энергию излучения в импульсе, его длительность, диаметр светового пятна иа обрабатываемой поверхности. Технологические установки имеют много общих элементов Анализ структурной схемы (рис 15 1) позволяет выделить следующие основные узлы [18, 20] излучатель /; источник питания 2\ систему поджига импульсной лампы 3; систему Охлаждения 4, оптическую систему Дтя фокусирования излучения на обрабатываемую заготовку (энергетическую) и наблюдения результатов обработки (наблюдательную) 6; рабочий стол Для закрепления и перемещения обрабатываемых заготовок 7.
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 432 433 434 435 436 437 438... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
