Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 403 404 405 406 407 408 409... 494 495 496
|
|
|
|
13.2. Параметры высокоскоростного напыления [20] Р, Па па, см-' х, м/с Ре, Па 105 3,8-1023 1 ю-2 10 3,8-1018 10"5 10"7 ю-1 3,8-1017 Ю"6 10"8 Ю-3 3,8-1016 10"8 Ю-ю ю-4 3,8-1014 ю-" 10"11 10"' 3,8-1011 ю-12 Ю-14 Оценка интенсивности испарения при q2 = 106 Вт/см2 и / = 10 мкс дает следующие результаты: для алюминия І** = 4-1-5 MKCj q0 = о,19 (испарение нестационарное; для двуокиси кремния т = const, qv — 0,7-^0,8 (испарение стационарное). Абсолютные значения скорости осаждения для алюминия и двуокиси кремния 10~2 м/с. Полное количество испаренного алюминия с 1 см2 4-10~5 г, двуокиси кремния 1-Ю"3 г. При этом удельная энергия теплового импульса 10 Дж/см2. В табл. 13.2 приведены параметры высокоскоростного напыления в условиях "эквивалентного" вакуума [9]. В таблице приняты обозначения: па — массовая скорость остаточного газа, осаждающегося на подложке при давлении р; х — скорость напыления при njna да 15 (па — массовая скорость атомов пара); ре — давление, соответствующее скорости осаждения х = Ю-2 м/с. Из табл. 13.2 следует, что импульсное испарение позволяет осуществлять напыление даже при атмосферном давлении. При форвакууме (10*— 10 1 Па) импульсное напыление эквивалентно напылению в условиях вакуума порядка 10~2 Па. Реализация импульсного электроннолучевого напыления в промышленности. Для импульсного напыления необходимы в первую очередь оборудование и аппаратура, обеспечивающие устойчивую работу в течение длительного времени в импульсном режиме на частотах до 1 кГц при мощности источника более 1—3 кВт. В этом отношении предпочтительнее импульсное электронно-лучевое напыление, так как для этого процесса можно использовать серийно выпускаемые электронно-лучевые установки. Установки обеспечивают ускоряющее напряжение и = 25-т-ЗО кВ, мощность q = З-г-5 кВт, удельную мощность q¡¡= 10*-*-10е Вт/см2, длительность импульса 1—50 мс, частоту следования импульсов 1—200 Гц. Установки снабжены отклоняющими системами, что позволяет при подключении соответствующего устройства для развертки и модуляции ЭЛ производить испарение из одного или "нескольких" источников, практически обеспечивая любой заданный состав пленки из любых материалов, так как за один импульс распыляется порция вещества 10"в—10~5 г. 13.3. Производительность и эффективность некоторых процессов термического испарения Процесс Затрачиваемая Производи Эффектив мощность, тельность, ность, кВт г/с г/(скВт) Термическое испарение в вакууме 1—2 1,4-10"3 (0,74-1,4) 10-3 Электронно-лучевое нанесение по 250 1,4 6-ю-3 крытий в вакууме (постоянный ре жим) Плазменное распыление 30 1,4 4,7-Ю-2 Импульсное электронно-лучевое 3 5,0 1,6 распыление
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 403 404 405 406 407 408 409... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
