Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 355 356 357 358 359 360 361... 494 495 496
|
|
|
|
Рис. 10.15. Полированная иоаеркность стального образца после воздействия одного импульса ЭЛ при и — 140 кВ, / = = 10 мА, т — 15 мкс, фокус луча расположен ниже поверхности образца на 5,5 мм, х2500; растровый электронный микроскоп 119] На скорость обработки существенное влияние оказывает положение фокального пятна луча относительно изделия. При II = 100 кВ, / = = 35,5 мА, / = 50 Гц, х = 100 мкс (титан, коррозионно-стойкая сталь) и т= 70 мкс (АМгб) (рис 10.10) наибольшая скорость обработки достигается при положении плоскости фокусировки ЭЛ примерно на половине толщины образца. Изменение длительности импульса при постоянной частоте влияет на скорость обработки. Прн и — 100 кВ, /=50 мА, /=100 Гц, т= 10-7--7-500 мкс обработка практически прекращается (рис. 10.11). С увеличением длительности импульса от 50 до 100 мкс скорость обработки возрастает в 6— 7 раз. Оптимальная длительность импульса в#условиях экспериментов т = = 100 мкс, время обработки образца толщиной 6 мм составляет 2—3 с При и = 100 кВ, / — 50 мА, т = = 100 мкс, положении плоскости фокусировки на глубине 3 мм, диапазоне изменения частоты следования импульсов / = 25Н-500 Гц наибольшая скорость обработки достигается при /= 100-7-150 Гц (рис. 10 12) С уменьшением "астоты следования импуль сов скорость обработки снижается в 2— 4 раза. Наибольшая производительность н лучшее качество обработки достигаются при U = 100 кВ, / = 50 мА, / = = 100 Гц, т= 100 мкс и опускании фокальной плоскости на глубину до 3 мм. На рис. 10.13—10.15 приведены результаты растровой электронной микроскопии поверхности зоны электронно-лучевого воздействия на сталь в различных режимах [19]. Воздействие ЭЛ на кремний. При воздействии на кремниевые пластины во избежание их разрушения в процессе интенсивного нагрева и охлаждения осуществляется предварительный подогрев образца до 700°С. Образец устанавливают в камере электронно-лучевой установки в специальных электродах, соединенных через изолированные вводы в стенке камеры с трансформатором. После откачки камеры до рабочего давления образец медленно разогревается расфокусированным электронным лучом до 300—400 °С. Затем включают трансформатор и дальнейший подогрев образца до 700°С производят путем пропускания через него тока. Температуру подогрева контролируют хромель-алюмелевой термопарой, которая заделана в один из электродов. Заданную температуру поддерживают в течение 0,5—1 мин (с точностью —30 °С), после чего производят про-плавление образца. Для уменьшения градиента температур по длине образца площадь поверхности контакта электродов с кремнием должна быть минимальной. С этой же целью проплавлен ие необходимых трех точек производят в средней части образца (рис. 10.16). В процессе электронно-лучевого воздействия регистрировались следующие параметры ЭЛ' ускоряющее напряжение, сила тока и время действия ЭЛ, расстояние от центра фокусировки системы до образца, сила тока фокусировки. На рис. 10.17 показан участок поверхности кремниевого образца в районе воздействия электронным пучком. Вверху находится зона расплавленного в процессе воздействия матери
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 355 356 357 358 359 360 361... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
