Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 351 352 353 354 355 356 357... 494 495 496
|
|
|
|
О20 чО п о ю юо 1дп Рис 10 9 Зависимость глубины отверстия Н от числа импульсов п [18] 1 — в линейных координатах; 2 — в лога Цифмических координатах (сталь, V = = 130 кВ, / = 6 мА, / = 500 Гц, т„ =-— 10 икс) Для достижения оптимальных ре-Жимов обработки параметры ЭЛ следует выбирать с учетом рекомендаций {13], приведенных ниже. При обработке массивных изделий из любых материалов на большую глубину необходимо обеспечить режим работы с максимальной силой тока в единице телесного угла и углубление фокуса ЭЛ под поверхность детали. При обработке тонких пленок ЭЛ должен иметь максимальный угол сходимости, а его фокус должен располагаться над обрабатываемой поверхностью. Зависимость размеров глухих микроотверстий от характеристик ЗЛ может быть описана эмпирическими выражениями Н^аии{Хи\ Н = схты,. (10 17) где аа, а*и, т, ац, с% — коэффициенты, зависящие от теплофизических свойств материалов и режима обработки; ха, хн, Ху, п, N — показатели, характеризующие обрабатываемый материал и режим обработки [2] Глубина микроотверстия Н=а+Ь\%п,(10.18) где а, Ь — коэффициенты, зависящие от режима обработки. Справедливость выражения (10 18) подтверждается рис. 10 9 [18] Как видно из соотношений (10 17), ла размерные параметры обработки при оптимальных длительности единичных импульсов и положении фокуса ЭЛ существенное влияние оказывают сила тока луча, ускоряющее напряжение, число серий импульсов Исследование влияния каждого фактора традиционным путем требует больших затрат времени, поэтому для получения соответствующих зависимостей используют метод полного факторного эксперимента В качестве исходной берут математическую модель [2] НШ'^п", (10 19) где к — коэффициент, зависящий от теплофизических свойств материала и режимов обработки, с, р, ц — показатели степени В результате статистической обработки данных получена зависимость Н = 4,4Ю-18с/в."а/1.2л".в (¡0 20) Процесс импульсной электроннолучевой обработки на оптимальных режимах с учетом рассеяния электронов пучка на продуктах выброса характеризуется наличием минимального количества жидкой фазы В некоторых случаях, например при обработке полупроводниковых материалов [2], расплав "наползает" иа зону обработки, "огрубляя" край микропаза вследствие того, что его поверхностное натяжение ниже поверхностной энергии твердой фазы Для описания наползающего на поверхность твердого тела ламинарного слоя расплава может быть принята модель, учитывающая то, что часть слоя, прилегающая к твердому телу, кристаллизуется в процессе нлполза-ния [2] 10.2. Электронно-лучевая обработка некоторых материалов Обработка металлических материалов. Взаимосвязь параметров при сверлении отверстий в металлических деталях (скорость обработки в зависи
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 351 352 353 354 355 356 357... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
