Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 197 198 199 200 201 202 203... 494 495 496
|
|
|
|
А® 2 1 2 1 V / / V Ґ у О 12 3 4 5 1,мн Рис. 6.21. Зависимость поглощательной способности А (!) от толщины окисной пленки |: 1 — точное значение; 2 — аппроксимация проницаемость окисла; Я„ — длина волны ЛИ. При плотностях потока ЛИ 70 105 Вт/сма характерная толщина окисной пленки не превышает 3 мкм. Поэтому для А (5) можно использовать приближенную аппроксимацию, как показано на рис. 6.21. Для решения сформулированной задачи (6.6) строится итерационный процесс таким образом, чтобы его нулевое приближение Т0 (г, г, г) давало бы решение уравнений (6.6) при условии отсутствия реакции на поверхности тела. Зависимости толщины окисной пленки от безразмерного времени в центре пятна нагрева для различных значений дв представлены на рис. 6.22. При I ^ гС1. (гс, — время установления стационарной температуры при отсутствии химической реакции) происходит быстрый рост толщины окисной пленки, причем скорость роста окисной пленки существенно возрастает с увеличением плотности потока ЛИ, что связано с более интенсивным протеканием окислительной реакции на поверхности металла. При t гст зависимость толщины окисной пленки от времени будет слабее. Это объясняется тем, что температура, близкая нулю, достигает стационарного значения и изменение скорости протекания окислительной реакции будет мало. Графики зависимости толщины окисной пленки от безразмерного расстоя г О1 2 З Ч з каі Рис. 6.22. Зависимость толщины окисной пленки от времени в центре пятна нагрева для различных значений да: 1 3.10" Вт/см2; 2 — 4. 10" Вт/см2; 3 — ?о = 5.10" Вт/см2 ния Іг^'г до центра пятна нагрева для различных моментов времени в точке г = 0 представлены на рис. 6.23. Для сравнения на этом же графике представлена зависимость распределения плотности потока ЛИ (кривая 3). При малых временах нагрева пространственная зависимость толщины окисной пленки, а следовательно, и поглоща I (г,і)/І(с,і) 0,5 3 к1/7г Рис. 6.23. Нормированные распределения толщины окисной пленки для различных моментов времени: 1 — г = 0,6; 2 — I = 10; 3 — заданное распределение плотности потока ЛИ
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 197 198 199 200 201 202 203... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
