Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 188 189 190 191 192 193 194... 494 495 496
|
|
|
|
У,Л"/С Вт/сп 5 Ю7 107 2, пкп Рис. 6.13. Профили температуры, плот-иостн и давления плазменного облака в мо-мент £ = 0,1; 0,2; 0,3; 0,4 МК1Я иых минимума. Минимум при / ^ 3 0,01 мкс (9 = 6,5-10е Вт/см2) обусловлен интенсивным поглощением ЛИ дп да 0,Обо в области II. Второй минимум при t = 0,3 мкм (? = 610е Вт/см2) определяется поглощением в области I. Затем в результате просветления горячей области, вызванного уменьшением плотностей р, и р2 до р, = 1,4х x Ю-1 г/м3 и р2 = 1,3-10"1 г/м3, плотность потока на поверхности ц = = 3,9-10' Вт/см2. Таким образом, через 1 мкс после начала воздействия из Рис. 6.16. Эпюра скоростей и (г) при г = 0 Рис. 3.17. Временные зависимости температур областей I и II, плотности и лучистых потоков на поверхность тела лучения на образец его поверхности достигает около 80 % плотности потока ЛИ и эффекта экранирования плазменным облаком при исходном давлении 3 МПа не происходит. Это является основной причиной разрушения поверхности образцов, наблюдаемого при давлениях 3—5 МПа. Расчеты показывают, что мощность ЛИ, необходимая для поддержания развития плазмы, практически не зависит от давления. Как и при давлений 10 МПа пороговое значение мощности при давлении 3 МПа равняется 92 кВт, что соответствует 9 = 4,4 -107 Вт/см2. им
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 188 189 190 191 192 193 194... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
