Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 169 170 171 172 173 174 175... 494 495 496
|
|
|
|
вводить ЛИ внутрь камеры, а через другое окно регистрировать протекающие вблизи поверхности материала процессы с помощью скоростного фоторегистра типа СФР-1М, работающего в режиме лупы времени Наряду с металлами излучалось действие ЛИ на пластинки из диэлектриков [47] Воздействие ЛИ на материалы при высоких давлениях окружающей среды приводит к экранировке зоны воздействия и изменению характера поражения материалов Рассмотрим раздельно опытные данные, касающиеся явлений, происходящих над поверхностью образца, и изменений, вносимых совместным действием излучения и плазменного сгустка в физические характеристики поверхностного слоя Последовательно остановимся на экспериментах с азотом, аргоном и гелием, поскольку каждый из изученных газов обладает своими особенностями в процессах обработки мишеней Развитие зоны экранировки в азоте, эволюция плазменного сгустка [47] Изучение кинетики развития плазменного сгустка осуществлялось с помощью скоростного фотографирования Временной промежуток между отдельными кадрами составлял от 15 до 80 мкс в зависимости от степени подробности изучения той или иной стадии процесса Опытные данные показывают, что по прошествии 30— 50 мкс после начала воздействия ЛИ над поверхностью развивается плазменное облако, почти полностью экранирующее зону воздействия от прямого попадания ЛИ Степень экранировки мишени плазменным облаком, условно определяемая массой вынесенного вещества, существенно зависит от изменения давления и не-скотько слабее — от плотности потока ЛИ Плазменное облако еозни-кает вблизи поверхности мишени и перемещается навстречу ЛИ со скоростью 2—5 м/с при плотностях потока ~106—10' Вт/см2. Скорость плазменного сгустка достигает ~5 м/с максимального значения к концу действия импульса и затем начинает падать Время существования плазменного сгустка до его распада почти в 2 раза превышает длительность импульса (—0,8 мс) для таких мате риатов, как молибден и коррозионно-стойкая сталь Плазменное облако, образованное действием излучения на ряд диэлектриков, существует более продолжительное время — около 4 мс Поперечный размер плазменного сгустка для четатлических мишеней с течением времени изменяется вначале он растет, затем падает и, достигая определенного значения, мало изменяется вплоть до его исчезновения. Это указывает на то, что давление р плазменном сгустке в конце импульса мало отличается от давления газа в камере Изменение характеристик поверхностного слоя материала в зоне воздействия ЛИ в среде азота. Экранирование плазменным сгустком приводит к резкому снижению выброса материала независимо от его типа При толщине материала 1—2 мм и давлении азота 2—3 МПа (д 106 — ц-107 Вт/см2) в материале формируется "возное отверстие, а доля расплавленного материала на ее поверхности мала Рост давления (в указанном диапазоне плотностей потока) приводит к почти полной экранировке ЛИ В этом случае поверхность материала только "обожжена" (покрыта тонким слоем нитридов, продуктов сгорания, оставшихся на поверхности после ее очистки) и на ней практически отсутствуют микрообласти, где имеются мелкие капли расплава В то же время размеры зоны воздействия ЛИ на поверхности материала возрастают в несколько раз при исходном размере пятна нагрева я* 0,25—0,3 мм размеры обожженной зоны составляют несколько миллиметров Естественно связать этот факт с изменением пространственных и временных характеристик источника теплоты, действующего на поверхности материала после начала развития экранировки Птотность потока источника теплоты после начала экранировки падает, а эффективный радиус зоны воздействия существенно возрастает по сравнению с радиусом пятна /у ЛИ Возможным механизмом роста зоны воздействия на материал является тепловая расфокусировка ЛИ после прохождения плазменного облака, приводящая к снижению плот
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 169 170 171 172 173 174 175... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
