Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 144 145 146 147 148 149 150... 494 495 496
|
|
|
|
чем длина волны, уравнение (4 85) принимает вид п2п=ь1°У~1-(4-86) Профиль капиллярной волны | (г, г) может быть найден, если использовать связь отклонения час!ицы расплава от положения равновесия с потенциалом скоростей 2=0, ólldt = ду/дг (4 87) Тогда оо Í {г, 0 = £ (*пАп/""п) (Апг) X 71=1 X sh (¿„ft) sin wnt (4 88) Из уравнения (4 88) следует, что в соответствии с экспериментальными данными расстояние между двумя соседними вершинами по мере роста г увечичивается, а амплитуда волн убывает. Коэффициент затухания капиллярных воли, характеризующий диссипацию энергии в волне [11], уп = 2^w3o2'j, (4 89) где ¡i — динамическая вязкость расплава Выполним расчеты времен исчезновения возмущения и затвердения объема возмущения В условиях затвердения ванны расплава следует рассмотреть возможность фиксации "ррокта возмущения | (г, t) в процессе быстрой кристаллизации Сравним время исчезновения возмущения h " Ti1(4 90) и время затвердения объема вещества с линейным размером порядка | величины возмущения t2 я* |(r, t)'üm(t),(4.91) где vm (г) — скорость затвердения, которую можно оценить, используя (4 73) Условие t2 g; t1 соответствует фиксации формы капиллярных кольцевых волн при затвердении Оценки [28] показывают, что для первой гармоники гт и /2 могут быть одного порядка, т е при кристаллизации возможна фиксация кольцевых волн, достаточно удаленных от центра возмущения Скорость затвердения с течением вре-мени снижается по закону ~/ , что приводит к увеличению t2 и уменьшению tlt если учесть зависимость от температуры вязкости расплава [см. (4 89) ] Тем не менее центральная часть поверхности затвердевшей ванны должна быть свободна от кольцевых волн застывшего металла, поскольку в этой зоне tt С t2 из-за более быстрого снижения скорости затвердения, чем роста вязкости Это утверждение согласуется с опытными данными Поверхность расплава "не чувствует" отдельных пичков генерации, если лазер работает в пичковом режиме, так как временной интервал между отдельными пичками примерно 10~8 с значительно меньше времени релаксации давления отдачи гр " Ю-4 с. Термокапиллярная конвекция в расплаве. Рассмотрим гидродинамические течения, возникающие в жидкости, нагреваемой со стороны свободной поверхности [25] При сравнительно небольших плотностях потока ЛИ, когда испарение материала невелико, одной из причин, приводящих к возникновению конвекции в расплаве, может быть термокапиллярная сила, возникающая вследствие неоднородного нагрева поверхности расплава КПЭ [30] В работе [25] рассмотрен плоский горизонтальный слой несжимаемой жидкости толщиной h на свободной поверхности которой при z = 0 в момент времени t = 0 начинает поглощаться ЛИ с плотностью потока Q (х) Сразу после начала действия источника теплоты скорость течения жидкости мала и можно не учитывать нелинейные члены в уравнениях Навье— Стокса и теплопроводности и представить скорость v в виде v — grad ф + rot А; Дф = 0, dA/dt^-vAA(4 92) На дне (при 2 = —К) скорость жидкости обращается в нуль, а на свободной поверхности, смещением которой пока пренебрежем, справедливо условие vz =. 0, (da,'dT) (dT/dv) — = r\(dvx/dz + dvz/dx), (4 93)
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 144 145 146 147 148 149 150... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
