Электротермическое оборудование
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 367 368 369 370 371 372 373... 414 415 416
|
|
|
|
Эта печь состоит из двух вакуумных нагревательных камер, источника электропитания, откачной системы и газоприготовительной установки. Нагревательные камеры работают поочередно от общих источников питания и системы подачи газа. Нагревателей и футеровки печь не имеет. До рабочих температур детали нагревают сильноточным тлеющим разрядом постоянного тока, который горит между деталями (катодом) и стенками камеры (анодом). Для обеспечения равномерного нагрева изделий используют замечательную особенность этого вида разряда поддерживать одинаковую плотность тока по всей поверхности катода в определенной области давлений. При давлениях 102—103 Па, которые обычно используют для проведения процессов диффузионного насыщения, основное падение потенциала происходит в прика-тодной области разряда протяженностью ~ 1 мм. Благодаря этому удается обеспечивать равномерное насыщение легирующими элементами большого числа изделий со сложной наружной поверхностью. В мощных установках площадь одновременно обрабатываемых деталей может составлять сотни квадратных метров. При получении диффузионных слоев с использованием ионной бомбардировки применяют потоки ионов сравнительно невысокой энергии (обычно до одного килоэлектронвольта) и прямое проникновение ионов в насыщаемый материал происходит на небольшую глубину .(около 100 атомных слоев). Однако взаимодействие ионного потока с поверхностью приводит к ускорению диффузионных процессов в материале на значительно большей глубине. Широкое промышленное применение получил метод ионного азотирования деталей машин и инструмента. Процесс ведут в диссоциированном аммиаке, а также в ;азотоводородной смеси с добавками аргона или метана. Ионное азотирование обладает рядом преимуществ перед обычным газовым азотированием в атмосфере частично диссоциированного аммиака. Наиболее важными из них являются: сокращение длительности цикла азотирования в 3—5 раз, уменьшение деформации деталей, уменьшение хрупкости слоя и повышение его служебных характеристик, возможность азотирования высокохромистых сталей без применения специальных депас-сиваторов, простота защиты отдельных участков деталей "от азотирования, снижение удельного расхода электроэнергии в 1,5—2 раза и рабочего газа в 30—50 раз, улучшение условий труда. Технические характеристики некоторых из установок ионного азотирования, разработанных ВНИИЭТО, приведены в табл. 10-3. Таблица 10-3 Технические характеристики установок ионного азотирования, разработанных ВНИИЭТО 5 К со со Параметр 6.6/6 1566 20.2^ -28.7; ю и ЯШ ШВ о Установленная мощность, кВ-А 67 170 650 650 Размеры рабочего пространст ва, мм: диаметр 600 960 2000 2800 высота 600 1200, 2400 700 2400 Количество нагревательных ка 1 2 1 2 мер, шт. Масса загрузки, кг 50 500 2500 1000 Напряжение питающей сети, 0,38 0,38 6 ИЛИ 6 ИЛИ кВ 10 10 Методы ионного насыщения быстро развиваются, и в ближайшие годы можно ожидать значительного расширения применения в промышленности ионных процессов азотирования, цементации, нитроцементации и борирования. б) УСТАНОВКИ ДЛЯ ИОННОГО ОСАЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЙ Покрытием обычно называют поверхностную композицию, которая возникает в том случае, когда скорость конденсации атомов и ионов больше скорости их диффузионного взаимодействия с обрабатываемым материалом. При ионных методах осаждения покрытий подложку и конденсат подвергают бомбардировке потоком ионов с энергией, достаточной для эффективного распыления подложки. При этом имеет место существенное увеличение поверхностной подвижности конденсирующихся атомов и ионов. В последние годы методы ионного осаждения покрытий быстро развивались. Большой интерес к этим методам связан прежде всего с возможностью повышения качества известных и создания приципиально новых покрытий с высокими эксплуатационными характеристиками. Этого достигают благодаря возможности влиять на значительно большее число элементарных процессов, сопровождающих процесс осаждения покрытий, чем при традиционных способах. Особенно существенно увеличивается при ионном осаждении адгезионная прочность покрытий [10-31]. Этому способствуют устранение пленок примесей на поверхности подложки благодаря ионному распылению, образование прочного переходного подслоя из материалов подложки и конденсирующегося вещества, образование дефектов в подложке и активация ее поверхности, повышение химической активности газовой фазы, изменение условий образования зародышей и роста пленки и другие процессы. Принцип действия установок ионного осаждения показан на примере установки (рис. 10-37). Эта уста Рис. 10-37. Схема установки для ионного осаждения покрытий. / — вакуумная камера; 2— катод; 3, 6 — источни _ки питания; 4 — вентиль для напуска газа; 5—об ' 'рабатываемое изделие. новка' разработана в СССР и начинает находить промышленное применение. Способ, положенный в основу этой установки, получил название К.ИБ. Основными элементами установки являются вакуумная камера, один или несколько электродуговых испарителей, источники питания и система подачи легирующего газа. Вакуум в камере создается диффузионным паромасляным насосом и составляет около 5-Ю-4 Па. Испарение материала, входящего в состав покрытия, и подачу его в рабочую камеру осуществляют с помощью вакуумной дуги. Испаряемый материал служит
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 367 368 369 370 371 372 373... 414 415 416
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
