Электротермическое оборудование
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 366 367 368 369 370 371 372... 414 415 416
|
|
|
|
ковольтным электрическим импульсом разрядного промежутка между вспомогательным электродом и анодом создается сгусток плазмы, который способствует зажиганию основной дуги. Электрический заряд накапливается в конденсаторе С. Напряжение для заряда конденсатора формируется с помощью трансформатора и схемы умножения. 10-7. ВЫСОКОЧАСТОТНЫЕ ИНДУКЦИОННЫЕ ПЛАЗМОТРОНЫ Высокочастотный индукционный плазмотрон (в. ч. и.-плазмотрон) представляет собой устройство, позволяющее стационарно получать и осуществлять управление движущейся индукционной плазмой. Нагревание плазмы в в. ч. и.-плазмотроне представляет собой обычный индукционный нагрев проводящей среды (ионизованного газа) в переменном электромагнитном поле индуктора. В начале процесса для образования внутри плазмотрона проводящей среды в зоне индуктора создается предварительная ионизация от постороннего источника (факельный или дуговой разряд). Этот процесс называется "зажигание" индукционного плазмотрона. После зажигания в разрядной камере в. ч. и.-плазмотро-на возникает самоподдерживающийся стационарный безэлектродный индукционный разряд. Осуществляя продувку газа через разрядную камеру, на выходе из плазмотрона можно получить плазменную струю с температурой (7,5—10,5)-103 К, имеющую скорость 10— 60 м/с. Благодаря отсутствию электродов в. ч. и.-плазмо-трон является одним из немногих источников, позволяющих получать чистую плазму, не загрязненную материалами электродов. Он обладает практически неограниченным ресурсом работы в атмосфере химически активных газов. Существуют три способа газовой стабилизации: вихревым потоком (рис. 10-35,0), несформированным а) 'б)В) Рис. 10-35. Основные типы индукционных плазмотронов. а и б — со стабилизацией аксиальным газовым потоком; в—со стабилизацией вихревым потоком. аксиальным потоком (рис. 10-35,6) и аксиальными газовыми потоками, состоящими из термозащитного, протекающего вдоль стенок, и плазмообразующего газа, подаваемого по центральной трубке (рис. 10-35, ау [10-20-10-23]. 24—351 10-8. УСТАНОВКИ ИОННОГО НАГРЕВА В последние 5—10 лет для химико-термической обработки металлов и сплавов начали применять установки, в которых поверхность обрабатываемых изделий подвергают бомбардировке ионами с целью активного воздействия на физико-химические процессы, проходящие в тонких поверхностных слоях, и одновременного нагрева до требуемых температур. Ценным качеством этих установок является возможность гибкого регулирования процессов и их интенсификации. По принципу действия эти установки близки к установкам плазменного нагрева. В нашей стране и за рубежом разработано значительное число различных установок и технологических процессов с использованием ионного нагрева [10-30]. В зависимости от назначения установок энергия ионов, используемых для обработки поверхности изделий, изменяется от десятков до сотен тысяч электронвольт. Наибольшее распространение получили установки, в которых источником ионов является тлеющий разряд. Изделия являются катодом разряда и их поверхность подвергается воздействию ионов, ускоренных на катодном скачке потенциала разряда. В машиностроении такие установки применяют для получения износостойких и упрочняющих диффузионных слоев и покрытий. а) УСТАНОВКИ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ДИФФУЗИОННЫХ СЛОЕВ Диффузионные упрочняющие слои образуются, когда скорость конденсации атомов и ионов легирующих элементов меньше скорости их диффузионного взаимодействия с обрабатываемым материалом. Это происходит, например, в процессах азотирования, цементации, нитроцементации, борирования и т. д. Устройство и принцип действия установок для диффузионного насыщения поверхностных слоев изделий легирующими элементами показаны на примере электропечи ионного азотирования ОКБ-1566 (рис. 10-36). ВыШжная Вентиляция Рис. 10-36. Принципиальная схема установки ионного азотирования ОКБ-15Б6. 1, 2 — нагревательные камеры*, 3—подвеска с деталями; 4 — термоэлектрический преобразователь;, 5 — обрабатываемые дета' ли; 6, 7 — разъединитель; 8 — тиристорний .источник питания; 9 — блок измерения и регулирования температуры; Ш— газоприготовительная установка; // —вакуумный насос
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 366 367 368 369 370 371 372... 414 415 416
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
