2.

■З

Рис. 6.26. Схема імпульсного плазмово-детонаційного генератора:

/ — високовольтне джерело живлення; 2 — реакційна камера; 3 — ізолятор; 4 — витратний електрод; 5— детонаційний пристрій; 6 — свічка підпалювання; 7— виріб

і характеризується високими температурою і тиском, а також великими швидкостями нагрівання й охолодження (рис. 6.27). На відміну від інших температурних впливів — променем лазера, електронним пучком або факелом плазмотрона, під тиском вибуху формуються розплави з температурою, близькою до 104 К, яка значно вища за температуру точки кипіння металів при нормальному тиску.

Нагрівання відбувається зі швидкістю І О7— 10і0 К/с, а після припинення дії плазми починається охолодження зі швидкістю І О5— І О7 К/с поверхневої плівки розплаву і утворюється холодне осердя. При такому загартуванні в різних металах і сплавах можна спостерігати пересичені тверді розчини, тверді метастабільні фази.

Температура нагрівання поверхні може бути визначена за формулою

де а — температуропровідність; X — теплопровідність; с — теплоємність; р — густина матеріалу твердого тіла; /0 — час обробки; / — відстань, на яку в матеріалі поширюється тепловий фронт; т — маса плазмового потоку.

Швидкість нагрівання поверхні можна розрахувати так:

(6.25)

(6.26)