Рис. 4.50. Схеми деяких технологічних процесів, які реалізуються на електронно-променевій установці з кількома випарниками:

а — випаровування з незалеж-них випарників металів і неметалів з подальшою одночасною конденсацією парової фази на алоску основу, шо обертається; б — випаровування з незалежних випарників металів і неметалів із подальшою одночасною конденсацією парової фази на циліндричну деталь, шо обертається; в — випаровування з незалежних випарників металів і неметалів із подальшою пошаруватою конденсацією парової фази на алоску основу, шо обертається; г — випаровування з незалежних випарників металів із можливістю подальшої пошаруватої конденсації парової фази на стрічку, що переміщується

несення захисних покриттів. Наведені дані можна використовувати як вихідні для скорочення етапів пошуку і вибору оптимальних параметрів режиму нанесення покриттів із необхідними властивостями, але вони потребують уточнення і доробки стосовно вирішення конкретних завдань з нанесення захисного вакуумного покриття.

Таблиця 4.7. Технологічні параметри нанесення покриття та області використання захисного вакуумного покриття