верхні виробу покриття з хімічних сполук. Цей процес має технологічні особливості, які необхідно враховувати.

При розпиленні мішені частина реакційного газу зв'язується речовиною, шо розпилюється, а частина — поверхнею мішені, що безперервно поновлюється. Відбувається своєрідне відкачування реакційного газу. Швидкість відкачування при розпиленні залежить від площі покриття, швидкості видалення плівки, що утворилася на мішені, і виявляється в зменшенні тиску реакційного газу у вакуумній камері з початком процесу напилення.

При малому тиску реакційного газу при постійній потужності розряду з мішені розпилюється метал і хімічна реакція відбувається на поверхні, шо напилюється. При вищому тиску на поверхні мішені утворюються хімічні сполуки і швидкість розпилення різко знижується, оскільки швидкість розпилення хімічної сполуки (оксиду, нітриду, карбіду) значно нижча, ніж чистих металів.

Техніка отримання покриття при магнетронному реакційному розпиленні показує велику чутливість до таких технологічних параметрів, як густина іонного струменя мішені, напруги розряду і відношення парціального тиску інертного газу до реакційного. Останній параметр в кожному окремому випадку має своє певне значення і не може мати сталого значення для кожної хімічної сполуки, тому шо воно залежить від потужності розряду і швидкості натікання реакційного газу. Висока густина струму необхідна для ерозії з катода поверхневих діелектричних плівок з більшою швидкістю, ніж їх утворення.

Висока напруга необхідна, оскільки в деяких випадках невелике збільшення напруги істотно збільшує швидкість осадження.

Велика чутливість якості та повторюваності властивостей покриття від технологічних параметрів процесу реакційного розпилення і, зокрема, від кількості реакційноспроможного газу та потужності розряду вимагає чутливого контролю процесу напилення в часі. Електричні параметри ефективно контролюються електровимірювальними приладами, а стан плазмового розряду, і, зокрема, емісія — оптичною електрометрією або розрахунками газів.

Найбільш поширеним є спосіб реакційного нанесення ніт-ридного покриття, зокрема, нітриду титану ТіЬІ, а також інших сполук, наприклад А1203, Ті205, Бі02 та ін.

У табл. 4.6 наведені умови утворення на поверхні виробу нітриду титану активованим реакційним напиленням при електронно-променевому напиленні променем потужністю 2 кВт.