Регулюючи потужність джерела теплоти, доводять температуру матеріалу, який випаровується, до рівня, при якому 1\ 1,33 Па. Зі збільшенням температури матеріалу тиск насиченої пари різко збільшується. Так, при випаровуванні алюмінію та хрому збільшення температури випаровування на 10—15 % призведе до збільшення Р0 приблизно на порядок.

На рис. 4.46 показано залежності швидкості випаровування від температури деяких елементів, які використовуються для вакуумно-конденсаційного напилення покриття.

У табл. 4.2 наведено рекомендовані температури випаровування різних матеріалів для досягнення тиску насиченої пари 1,33 Па.

Тиск насиченої пари та швидкість випаровування істотно залежить від стану поверхні, яка випаровується. Наявність оксидної плівки та різних включень ускладнюють процеси випаровування. Не можна допускати високу концентрацію газоподібних включень у матеріал.

Форми і розміри поверхні випаровування впливають на стабільність процесу, характер розподілу елементів. Тому потрібно підтримувати стабільний рівень ванни подачею порошкових або пруткових матеріалів, використанням лазерних та інших систем контролю за рівнем поверхні.

Забезпечення необхідного температурного режиму конденсації. Ця операція є найбільш важливою для всієї технологічної схеми процесу нанесення захисного покриття, тому шо забезпечує формування конденсату необхідними функціональними характе-

Таблиця 4.2. Рекомендовані температури випаровування різних матеріалів для досягнення Р0= 1,33 Па