пульсними лампами у високому вакуумі і очищення в тліючому розряді на етапі відкачування системи механічним насосом.

При нагріванні імпульсними лампами досягається поєднання високотемпературного нагрівання поверхні низької температури в об'ємі виробу і шарах, які дотикаються до поверхні. Але для цього способу потрібні потужні джерела системи охолодження. Лампи працюють при високій напрузі, шо ускладнює роботу обслуговуючого персоналу.

Очищення поверхні тліючим розрядом має істотні переваги над іншими видами електрофізичної підготовки поверхні. Це один із видів несамостійного розряду в газах, який виникає між електродами при визначеній різниці потенціалів. Електроди виготовляють у вигляді пластини, рамки або дротика. При очищенні діелектрика електроди розміщуються з боку поверхні, на яку наноситься покриття. Найчастіше електроди виготовляють з алюмінію, який має низький коефіцієнт розпилення, високий коефіцієнт вторинної електронної емісії, добрі механічні характеристики, високу тепло- і електропровідність.

При очищенні металевих виробів вони самі можуть слугувати катодом, а заземлена вакуумна камера — анодом.

Очищення поверхні діелектриків найбільш ефективна при короткочасній (3—7 с) дії плазми тліючого розряду і густини струму 2,0—4,0 А/м2. Такий режим дає можливість видалити хе-мосорбовану воду і тонкі поверхневі забруднення без розігрівання внутрішніх шарів виробу. Особливо ефективне плазмове очищення для оксидних шарів поверхні при нанесенні на них шарів металів із високою питомою енергією утворення оксиду.

Очищення в плазмі тліючого розряду після грубого хімічного очищення поверхні виробу дає змогу отримати адгезію покриття, яка дорівнює когезійній міцності поверхні виробу. Ефект очищення пояснюється утворенням на поверхні оксидних підкладок активних центрів адсорбції і адгезії та ініціюванням хімічної взаємодії між матеріалом плівки і оксидами підкладки. Зокрема, стає можливим процес окиснення атомів металів, що випаровуються, киснем з підкладки з утворенням проміжного шару оксиду.

При вакуумно-конденсаційних методах нанесення покриття, крім підготовки поверхні виробів для нанесення покриття на матеріали, що напилюються, дуже важливим етапом є підготовка до процесу нанесення покриття технологічного устаткування і обладнання, що знаходиться у вакуумній камері, зокрема, очищення його від сконденсованих на його поверхні при попередніх процесах матеріалів, вологи та інших забруднень.