Рис. 4.44. Схема внутрішньокамєрно-го обладнання установки УВН-75Р-2: / — базова плита; 2 — слектронно-проме-нсвий випарник; З — бункер деталей; 4 — багатопозиційна карусель; 5 — підігрівник виробів; 6 — ковпак вакуумної камери; 7 — виріб; 8 — магнетронна розпилювальна система; 9 — екран

Основу становить сталевий зварний каркас, закритий металевими панелями пульта керування. Ковпакова робоча камера з випарником і виробами розташовані на базовій плиті, а всередині каркаса змонтовано всі інші системи й елементи. Ковпакова камера являє собою металеву (з нержавіючої сталі) герметичну оболонку, що вакуумно щільно з'єднується з базовою плитою. Для спостереження за процесом напилювання ковпак має оглядове вікно.

До камери припаяний змійовик, який призначений для охолодження або підігрівання камери холодною чи гарячою водою.

Для нанесення покриття досить часто використовують установки, в яких процес здійснюють з використанням двох методів. Прикладом такої установки може бути установка УВН-75Р-2, схема якої наведена на рис. 4.44.

Електрична схема установки забезпечує живлення і керування тліючим розрядом при максимальному струмі 200 мА та напрузі 5 кВ і електронно-променевим випарником при максимальному струмі променя 200 мА і напрузі 10 кВ.

Більші можливості має інша модифікація установок такого типу УВН-75П-1. Вона забезпечує іонне розпилення як на постійному, так і на змінному струмі. При розпиленні металів, сплавів, з'єднань металевого типу на матеріал подається постійна напруга до 5 кВ. При розпиленні діелектриків використовується змінна напруга до 3 кВ з частотою 76 МГц. Крім того, установка має двопроменевий електронний випарник, який працює при напрузі 6—10 кВ та силі струму до 200 мА.