Рис. 4.39. Схема базової установки УВН-2М (а) та технологічного оснащення в камерах одноопераційного (б) та багатоопераційного типів (в): 1, 9— камера; 2 — натікач робочого газу; 3 — високовакуумна засувка: 4 — коробка клапанів; 5— азотна пастка: 6 — механічний вакуумний насос; 7 — дифузійний насос; 8 — посудина Дьюара; 10 — нагрівник напилюваного виробу; // — карусель масок на виробі: 12— екран: ІЗ, 19— засувка; 14— випарник; 15— базова плита; 16— карусель напилюваних виробів: 17— карусель масок: 18— екран: 20— карусель випарників

Для іонного очищення поверхні напилюваних виробів та прискорення іонізованих частинок у потоці при конденсації покриття використовують малопотужні високовольтні джерела випрямленого струму. Найчастіше ці джерела мають пологоспадну зовнішню вольт-амперну характеристику, напругу холостого холу в межах 0,5—3,0 кВ та силу струму навантаження 0,1—0,5 А та вище.

Установки для вакуумно конденсаційного нанесення покриття.

Для вакуумного нанесення покриття термічним випаровуванням